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1. (WO2006027996) EUV用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/027996    国際出願番号:    PCT/JP2005/016011
国際公開日: 16.03.2006 国際出願日: 01.09.2005
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), C07C 39/15 (2006.01), C07C 39/17 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HADA, Hideo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HIRAYAMA, Taku [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SHIONO, Daiju [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
WATANABE, Takeo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KINOSHITA, Hiroo [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HADA, Hideo; (JP).
HIRAYAMA, Taku; (JP).
SHIONO, Daiju; (JP).
WATANABE, Takeo; (JP).
KINOSHITA, Hiroo; (JP)
代理人: TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu Chuo-ku Tokyo 1048453 (JP)
優先権情報:
2004-262306 09.09.2004 JP
発明の名称: (EN) RESIST COMPOSITION FOR EUV AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
(FR) COMPOSITION DE RÉSIST POUR UV EXTRÊMES ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UN MOTIF DE RÉSIST
(JA) EUV用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
要約: front page image
(EN)A resist composition for EUV, characterized by comprising: a protected compound (A1) which is a polyhydric phenol compound (a) represented by the following general formula (I) in which part or all of the phenolic hydroxy groups have been protected by an acid-dissociable dissolution-inhibitive group; and an acid generator ingredient (B) which generates an acid upon exposure to light.
(FR)La présente invention concerne une composition de résist pour UV extrêmes caractérisée en ce qu’elle comprend : un composé protégé (A1) qui est un composé de phénol polyhydrique (a) représenté par la formule générale suivante (I) dans laquelle une partie ou l’ensemble des groupes hydroxy phénoliques ont été protégés par un groupe inhibiteur de dissolution dissociable dans un acide ; et un ingrédient générateur d’acide (B) qui génère un acide à la suite d’une exposition à la lumière.
(JA)not available
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)