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1. (WO2006025336) 成膜装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/025336    国際出願番号:    PCT/JP2005/015673
国際公開日: 09.03.2006 国際出願日: 29.08.2005
IPC:
C23C 14/34 (2006.01)
出願人: ULVAC, Inc. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP) (米国を除く全ての指定国).
DOGI, Minoru [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ODAGI, Hideyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SHIMADA, Tetsuya [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MATSUMOTO, Masahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: DOGI, Minoru; (JP).
ODAGI, Hideyuki; (JP).
SHIMADA, Tetsuya; (JP).
MATSUMOTO, Masahiro; (JP)
代理人: KITAMURA, Kinichi; 703, New Shinbashi Building 16-1, Shinbashi 2-chome Minato-Ku, Tokyo 1050004 (JP)
優先権情報:
2004-249627 30.08.2004 JP
発明の名称: (EN) FILM FORMING EQUIPMENT
(FR) ÉQUIPEMENT DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置
要約: front page image
(EN)Film forming equipment is provided for efficiently and continuously forming films by sputtering, on both planes of a substrate, by preventing temperature of the substrate from increasing to a prescribed temperature or higher. In a pressure adjusted film forming chamber (2), while a rotating drum (7) is rotated by being driven by a driving motor (8), a film is formed by outer plane cathodes (17a, 17b) whereupon a direct current voltage or an alternating current voltage or a high-frequency voltage is applied, on a front plane of a substrate (12) on a substrate tray (13) held by a substrate holder (10). By forming a film, on a rear plane of the substrate (12) on the substrate tray (13) held by the substrate holder (10), by inner plane cathodes (14a, 14b) whereupon a direct current voltage or an alternating current voltage or a high-frequency voltage is applied, temperature of the substrate can be prevented from increasing to the prescribed temperature or higher and excellent sputtering film formation can be efficiently and continuously performed on the both planes of the substrate (12).
(FR)L’invention porte sur un équipement de formation de film pour la formation efficace et continue de films par pulvérisation cathodique, sur les deux plans d’un substrat, en empêchant la température du substrat d’atteindre ou de dépasser une température prescrite. Dans une chambre de formation de film ajustée en pression (2), alors qu’un tambour rotatif (7) est mis en rotation sous l’effet d’un moteur d’entraînement (8), un film est formé par des cathodes à plan externe (17a, 17b) sur lequel une tension continue ou bien une tension alternative ou encore une tension haute fréquence est appliquée, sur un plan frontal d’un substrat (12) sur un plateau de substrat (13) maintenu par un support de substrat (10). En formant un film, sur un plan arrière du substrat (12) sur le plateau de substrat(13) maintenu par le support de substrat (10), par des cathodes à plan interne (14a, 14b) sur lequel une tension continue ou une tension alternative ou bien une tension haute fréquence est appliquée, on empêche la température du substrat d’atteindre ou de dépasser la température prescrite, pour ainsi réaliser une excellente formation de film par pulvérisation cathodique, de manière efficace et continue sur les deux plans du substrat (12).
(JA) 基板が所定温度以上に上昇するのを抑えて効率よく連続して基板両面にスパッタ成膜を行なうことができる成膜装置を提供する。  圧力調整された成膜室2内で、駆動モータ8の駆動により回転ドラム7を回転させながら、直流電圧又は交流電圧又は高周波電圧が印加された外面用カソード17a、17bで基板ホルダー10に保持された基板トレイ13上の基板12の表面に成膜を行なうとともに、直流電圧又は交流電圧又は高周波電圧が印加された内面用カソード14a、14bで基板ホルダー10に保持された基板トレイ13上の基板12の裏面に成膜を行なうことにより、基板が所定温度以上に上昇するのを抑えて効率よく連続して基板12の両面に良好なスパッタ成膜を行なうことができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)