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1. (WO2006022341) サブミクロンハニカム構造の製造法

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/022341    国際出願番号:    PCT/JP2005/015456
国際公開日: 02.03.2006 国際出願日: 25.08.2005
C08J 9/28 (2006.01), B29C 41/12 (2006.01), B29C 41/24 (2006.01), B82B 3/00 (2006.01), C08L 101/00 (2006.01), B29L 7/00 (2006.01)
出願人: National University Corporation Hokkaido University [JP/JP]; 8, Kita 8-jyo Nishi 5-chome Kita-ku, Sapporo-shi Hokkaido 0600808 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SHIMOMURA, Masatsugu; (米国のみ).
YABU, Hiroshi; (米国のみ)
発明者: SHIMOMURA, Masatsugu; .
YABU, Hiroshi;
代理人: SAEKI, Norio; 4th Floor, Aminosan Kaikan Building 15-8, Nihonbashi 3-chome Chuo-ku Tokyo 1030027 (JP)
2004-247852 27.08.2004 JP
(JA) サブミクロンハニカム構造の製造法
要約: front page image
(EN)A process for the production of a honeycomb-like porous body of 10 to 1000nm in thickness which is made of a water-insoluble polymer and has pores having diameters of 10 to 100nm, which comprises the following steps: (1) the step of dissolving a water-insoluble polymer in a water-incompatible organic solvent having a surface tension (ϝL) of 50dyn/cm or below to prepare a solution of the polymer in the organic solvent, (2) the step of applying the solution prepared in the step (1) to the surface of a substrate with the proviso that the surface tension (ϝS) of the substrate, the surface tension (ϝL) of the organic solvent, and the surface tension (ϝSL) between the substrate and the solvent satisfy the relationship: ϝS - ϝSL > ϝL, and (3) the step of bringing the solution applied on the substrate into contact with air having a relative humidity of 30 % or above to evaporate the organic solvent at such a rate that the coating thickness at applying the solution to the surface of the substrate is reduced by a factor of 5 within one second.
(FR)Cette invention concerne un procédé de production d’un corps poreux en nid d’abeille d’une épaisseur de 10 à 1000 nm constitué de polymère insoluble dans l’eau et ayant des pores de diamètres de 10 à 100 nm, comprenant les étapes suivantes : (1) l’étape de dissolution d’un polymère insoluble dans l’eau dans un solvant organique incompatible avec l’eau ayant une tension de surface (ϝL) de 50 dyn/cm ou inférieure pour préparer une solution de polymère dans le solvant organique, (2) l’étape consistant à appliquer la solution préparée lors de l’étape (1) à la surface d’un substrat, à condition que la tension de surface (ϝS) du substrat, la tension de surface (ϝL) du solvant organique, et la tension de surface (ϝSL) entre le substrat et le solvant soient conformes à la relation : ϝS - ϝSL > ϝL, et enfin (3) l’étape consistant à mettre la solution appliquée sur le substrat en contact avec l’air ayant une humidité relative de 30 % ou plus, afin d’évaporer le solvant organique à un taux tel que l’épaisseur du revêtement lors de l’application de la solution à la surface du substrat est réduite par un facteur de 5 par seconde.
(JA)not available
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)