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1. (WO2006022328) 成膜装置および成膜方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/022328    国際出願番号:    PCT/JP2005/015436
国際公開日: 02.03.2006 国際出願日: 25.08.2005
IPC:
C23C 16/458 (2006.01), H01L 21/285 (2006.01), H01L 21/28 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HANDA, Tatsuya [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
AIBA, Yasushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HANDA, Tatsuya; (JP).
AIBA, Yasushi; (JP)
代理人: YOSHITAKE, Kenji; Kyowa Patent & Law Office Room 323, Fuji Bldg. 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-0005 (JP)
優先権情報:
2004-245835 25.08.2004 JP
発明の名称: (EN) FILM FORMING EQUIPMENT AND FILM FORMING METHOD
(FR) EQUIPEMENT DE FORMATION D’UNE PELLICULE ET PROCEDE DE FORMATION D’UNE PELLICULE
(JA) 成膜装置および成膜方法
要約: front page image
(EN)Film forming equipment (20) is provided with a treatment container (22), a gas supplying system for supplying the container with a treatment gas including a film forming gas, and an exhaust system for exhausting the atmosphere in the container. In the treatment container, a placing table (46) having a placing plane for placing a flat board shaped body to be treated (W) is arranged. The body to be treated on the placing table is heated by a heater (80). A clamping apparatus (56) is provided to abut/separate to and from a surface peripheral part of the body to be treated, so as to press/release the body to be treated on and from the placing table. On the placing plane of the placing table, a suction structure (92) having a recessed part (94) is formed for temporarily sucking the body to be treated by pressure difference, by forming a substantially hermetic space between the placing plane and the rear plane of the body to be treated.
(FR)L’invention concerne un équipement de formation d’une pellicule (20), comportant une enceinte de traitement (22), un système d’alimentation en gaz pour alimenter l’enceinte en un gaz de traitement contenant un gaz de formation d’une pellicule, et un système d’évacuation pour évacuer l’atmosphère dans l’enceinte. Une table de positionnement (46) comportant un plan de positionnement pour positionner un corps en forme de plaquette plate à traiter (W) est disposée dans l’enceinte de traitement. Le corps à traiter sur la table de positionnement est chauffé par un élément chauffant (80). Un appareil de serrage (56) vient buter sur / s’écarte d’une partie périphérique de surface du corps à traiter, de manière à comprimer / libérer le corps à traiter sur / de la table de positionnement. Une structure d’aspiration (92) comportant une partie en retrait (94) est formée sur le plan de positionnement de la table de positionnement pour aspirer momentanément le corps à traiter par différence de pression, en formant un espace sensiblement hermétique entre le plan de positionnement et le plan arrière du corps à traiter.
(JA) 成膜装置(20)は、処理容器(22)と、この容器内へ成膜ガスを含んだ処理ガスを供給するガス供給系と、容器内の雰囲気を排気する排気系とを備えている。処理容器内には、平板状の被処理体(W)を載置する載置面を有した載置台(46)が設けられている。この載置台上の被処理体をヒータ(80)で加熱するようになっている。被処理体の表面周辺部に対して当接/離間して、被処理体を載置台に対して押圧/解放するクランプ装置(56)が設けられている。載置台の載置面には、被処理体の裏面との間でほぼ密閉された空間を形成して当該被処理体を差圧により一時的に吸着するための凹部(94)を有する吸着構造(92)が形成されている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)