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1. (WO2006022259) アクティブマトリクス基板およびそれを備えた表示装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/022259    国際出願番号:    PCT/JP2005/015271
国際公開日: 02.03.2006 国際出願日: 23.08.2005
IPC:
G02F 1/1343 (2006.01), G02F 1/1368 (2006.01), G09F 9/30 (2006.01)
出願人: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (米国を除く全ての指定国).
OKADA, Yoshihiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKAMURA, Wataru [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
BAN, Atsushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OKAZAKI, Shoji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KATSUI, Hiromitsu [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: OKADA, Yoshihiro; (JP).
NAKAMURA, Wataru; (JP).
BAN, Atsushi; (JP).
OKAZAKI, Shoji; (JP).
KATSUI, Hiromitsu; (JP)
代理人: OKUDA, Seiji; OKUDA & ASSOCIATES, 10th Floor, Osaka Securities Exchange Bldg., 8-16, Kitahama 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410041 (JP)
優先権情報:
2004-243970 24.08.2004 JP
2005-235006 12.08.2005 JP
発明の名称: (EN) ACTIVE MATRIX SUBSTRATE AND DISPLAY UNIT PROVIDED WITH IT
(FR) SUBSTRAT À MATRICE ACTIVE ET UNITÉ D'AFFICHAGE ÉQUIPÉE DE CELUI-CI
(JA) アクティブマトリクス基板およびそれを備えた表示装置
要約: front page image
(EN)An active matrix substrate capable of reducing a capacity formed at the intersection between a scanning line and a signal line without increasing a wiring resistance and lowering the drive capability of a switching element, and a display unit provided with it. The active matrix substrate comprises a substrate, scanning lines formed on the substrate, an insulation film covering the scanning lines, signal lines crossing the scanning lines via the insulation film, a switching element formed on the substrate to operate in response to a signal applied to a corresponding scanning line, and a pixel electrode electrically connectable to a corresponding signal line via the switching element. The insulation film is a multilayer insulation film containing a first insulation layer and a second insulation layer. The first insulation layer is formed of an insulation material containing an organic component, and the multilayer insulation film has a low laminate area not formed with the first insulation layer in at least part of an area overlapping the switching element (14).
(FR)La présente invention concerne un substrat à matrice active capable de réduire une capacité formée à l'intersection entre une ligne de balayage et une ligne de signal sans augmenter une résistance de câblage ni réduire la capacité de commande d'un élément de commutation, et une unité d'affichage équipée de celui-ci. Le substrat à matrice active comprend un substrat, des lignes de balayage formées sur le substrat, une pellicule d'isolation recouvrant les lignes de balayage, des lignes de signaux croisant les lignes de balayage par l'intermédiaire de la pellicule d'isolation, un élément de commutation formé sur le substrat de façon à fonctionner en réponse à un signal appliqué à une ligne de balayage correspondante, et une électrode de pixel pouvant être connectée électriquement à une ligne de signal correspondante par l'intermédiaire de l'élément de commutation. La pellicule d'isolation est une pellicule d'isolation multicouche contenant une première couche d'isolation et une seconde couche d'isolation. La première couche d'isolation est constituée d'un matériau d'isolation contenant un composant organique, et la pellicule d'isolation multicouche a une zone inférieure stratifiée non équipée de la première couche d'isolation dans au moins une partie d'une zone chevauchant l'élément de commutation (14).
(JA) 配線抵抗の増加やスイッチング素子の駆動能力の低下を伴うことなく、走査配線と信号配線との交差部に形成される容量を低減することが可能なアクティブマトリクス基板およびそれを備えた表示装置を提供する。  本発明によるアクティブマトリクス基板は、基板と、基板上に形成された走査配線と、走査配線を覆う絶縁膜と、絶縁膜を介して走査配線と交差する信号配線と、基板上に形成され対応する走査配線に印加される信号に応答して動作するスイッチング素子と、スイッチング素子を介して対応する信号配線と電気的に接続され得る画素電極とを備えている。絶縁膜は、第1絶縁層と第2絶縁層とを含む多層絶縁膜である。第1絶縁層は、有機成分を含む絶縁材料から形成されており、多層絶縁膜は、スイッチング素子14に重なる領域の少なくとも一部に第1絶縁層が形成されていない低積層領域を有している。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)