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1. (WO2006022176) 有機シラン化合物、該化合物の製造方法および該化合物を用いた有機薄膜
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/022176    国際出願番号:    PCT/JP2005/014996
国際公開日: 02.03.2006 国際出願日: 17.08.2005
IPC:
C07F 7/12 (2006.01), C07F 7/18 (2006.01), H01L 51/05 (2006.01), H01L 21/368 (2006.01), H01L 29/786 (2006.01), H01B 1/12 (2006.01)
出願人: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (米国を除く全ての指定国).
IMADA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HANATO, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TAMURA, Toshihiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: IMADA, Hiroshi; (JP).
HANATO, Hiroyuki; (JP).
TAMURA, Toshihiro; (JP)
代理人: KAWAMIYA, Osamu; AOYAMA & PARTNERS, IMP Building, 3-7, Shiromi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400001 (JP)
優先権情報:
2004-243510 24.08.2004 JP
発明の名称: (EN) ORGANIC SILANE COMPOUND, PROCESS FOR PRODUCING THE COMPOUND, AND ORGANIC THIN FILM COMPRISING THE COMPOUND
(FR) COMPOSÉ ORGANIQUE DE SILANE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DU COMPOSÉ ET FILM ORGANIQUE MINCE COMPRENANT LE COMPOSÉ
(JA) 有機シラン化合物、該化合物の製造方法および該化合物を用いた有機薄膜
要約: front page image
(EN)An organic thin film which has excellent unsusceptibility to stripping and has a high degree of order, crystallinity, and electrical conductivity; a compound which is used for forming the thin film; and a process for producing the compound. The compound is an organic silane compound having a structure formed by substituting a molecule represented by the formula (I) with a silyl group. The process for producing the organic silane compound comprises halogenating the molecule (I) and reacting the halogenated molecule with a silane derivative. The organic thin film comprises molecules of the organic silane compound which have been arranged on a substrate so that the silyl groups are located on the substrate side and the molecule (I) moieties are located on the film surface side. (I) (x1 and x2 satisfy the relationships 1≤x1, 1≤x2, and 2≤ x1+ x2≤8; y1 and z1 each is 2-8; y2 and z2 each is 0-8; and the skeleton may be substituted by a hydrophobic group.)
(FR)Film organique mince qui est extrêmement peu susceptible d’être dénudé et a un degré élevé d’ordre, de cristallinité et de conductivité électrique ; composé utilisé pour former le film mince ; et processus de production dudit composé. Le composé est un composé de silane organique ayant une structure formée en substituant une molécule représentée par la formule (I) par un groupe silyle. Le procédé de production du composé silane organique comprend l’halogénisation de la molécule (I) et la mise en réaction de la molécule halogénée avec un dérivé de silane. Le film organique mince comprend des molécules du composé de silane organique qui ont été disposées sur un substrat de telle sorte que le groupes silyles sont placés sur le côté du substrat et que les groupes caractéristiques de molécules (I) sont situés sur le côté de la surface du film. (I) (x1 et x2 satisfont les relations 1<x1, 1<x2 et 2<x1 + x2<8; y1 et z1 sont chacun 2-8; y2 et z2 sont chacun 0-8 et le squelette peut être substitué par un groupe hydrophobe).
(JA)not available
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)