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1. (WO2006019124) 露光装置及びデバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/019124    国際出願番号:    PCT/JP2005/015028
国際公開日: 23.02.2006 国際出願日: 17.08.2005
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NAKANO, Katsushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HAGIWARA, Tsuneyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NAKANO, Katsushi; (JP).
HAGIWARA, Tsuneyuki; (JP)
代理人: SHIGA, Masatake; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku, Tokyo1048453 (JP)
優先権情報:
2004-238007 18.08.2004 JP
2004-309322 25.10.2004 JP
2005-091221 28.03.2005 JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL D’EXPOSITION ET PROCÉDÉ POUR LA FABRICATION DU DISPOSITIF
(JA) 露光装置及びデバイス製造方法
要約: front page image
(EN)An exposure apparatus capable of preventing a liquid from remaining on a measurement part and a device manufacturing method. The apparatus comprises a measurement system (60) having a first pattern (61) formed on the upper surface of a substrate stage and a second area (S2) specified near a first area (S1) including the first pattern (61) on the upper surface. A second pattern (80) is formed in the second area (S2) so that the liquid (LQ) remaining across the first area (S1) and the second area (S2) can be retreated from the first area (S1) and collected to the second area (S2).
(FR)Appareil d’exposition susceptible de prévenir qu’un liquide ne persiste sur une pièce de mesure et procédé pour la fabrication du dispositif. L’appareil comprend un système de mesure (60) ayant un premier motif (61) formé sur la surface supérieure d’un étage de substrat et une deuxième région (S2) spécifiée dans le voisinage d’une première région (S1) incluant le premier motif (61) sur la surface supérieure. Un deuxième motif (80) est formé dans la deuxième région (S2) de manière à ce que le liquide (LQ) persistant dans la première région (S1) et la deuxième région (S2) puisse être retraité depuis la première région (S1) et recueilli dans la deuxième région (S2).
(JA) 計測部上に液体が残留することを防止できる露光装置を提供する。露光装置は、基板ステージの上面に形成された第1パターン(61)を有する計測システム(60)と、上面において第1パターン(61)を含む第1領域(S1)の近傍に規定された第2領域(S2)とを備え、第2領域(S2)には、第1領域(S1)と第2領域(S2)とにまたがるようにして残留した液体(LQ)が、第1領域(S1)より退いて第2領域(S2)に集まるように第2パターン(80)が形成されている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)