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1. (WO2006017163) VERSATILE SEMI-TOROIDAL PROCESSING FURNACE WITH AUTOMATIC AND RECONFIGURABLE WAFER EXCHANGE
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2006/017163 国際出願番号: PCT/US2005/024237
国際公開日: 16.02.2006 国際出願日: 09.07.2005
IPC:
F26B 19/00 (2006.01) ,F27D 11/00 (2006.01)
F 機械工学;照明;加熱;武器;爆破
26
乾燥
B
固体材料または固形物から液体を除去することによる乾燥
19
グループ9/00から17/00に包含されない固体材料または物体の乾燥するための機械または装置
F 機械工学;照明;加熱;武器;爆破
27
炉,キルン,窯(かま);レトルト
D
2種以上の炉に見出される種類のものである限りにおける,炉,キルン,窯またはレトルトの細部または付属品
11
炉内または炉に付設する電気加熱要素の配置
出願人:
BAYNE, Christopher, J. [GB/US]; US (UsOnly)
DIAMOND SEMICONDUCTOR, INC. [US/US]; 16548 Oleander Avenue Los Gatos, CA 95032, US (AllExceptUS)
発明者:
BAYNE, Christopher, J.; US
代理人:
DORT, David, Bogart; Dort Close IP, PLLC Box 66148 Washington, DC 20035, US
優先権情報:
10/889,30512.07.2004US
11/090,91726.03.2005US
発明の名称: (EN) VERSATILE SEMI-TOROIDAL PROCESSING FURNACE WITH AUTOMATIC AND RECONFIGURABLE WAFER EXCHANGE
(FR) FOUR DE TRAITEMENT SEMI-TOROIDAL POLYVALENT A ECHANGE DE PLAQUETTE AUTOMATIQUE ET RECONFIGURABLE
要約:
(EN) The present invention comprises a fully automated, fabrication compliant furnace with the advantages of the horizontal most of the advantages of the vertical furnace. One embodiment of the present invention is that it implements a multi-degree motion robot arm to move wafers from a loading area to a WIP station where the wafer are then loaded into wafer boats on a rotating cantilever system or directly onto a specialized and reconfigurable paddle designed to hold wafers: The wafers may be loaded in the horizontal processing position as well as the vertical processing position. Multiple levels of the semi-toroidal horizontal processors allow for multiple batches of wafers to be loaded, processed, cooled, and unloaded by the robot arm. The present invention reduces the footprint of the traditional horizontal or vertical furnaces, increases capacity and throughput, and allows for direct tube transfer.
(FR) L'invention concerne un four conforme entièrement automatique, ayant les avantages du four horizontal et la plupart des avantages du four vertical. Selon une variante, on décrit un bras de robot à mouvement sur plusieurs degrés pour le déplacement de plaquettes depuis une zone de chargement vers un poste de passage temporaire en cours de production (WIP), où la plaquette est ensuite chargée dans des porte-plaquettes sur un système en porte-à-faux rotatif ou directement sur un support de plaquettes spécialisé et reconfigurable. On peut charger les plaquettes en position de traitement horizontale et en position de traitement verticale. Les niveaux multiples des processeurs horizontaux semi-toroïdaux permettent le chargement, le traitement, le refroidissement et le déchargement de plusieurs lots de plaquettes, via le bras de robot. On réduit ainsi l'empreinte des fours horizontaux et verticaux classiques, en augmentant la capacité et le débit, et en permettant un transfert de tube direct.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 英語 (EN)
国際出願言語: 英語 (EN)