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1. (WO2006016677) 成膜装置および気化器
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/016677    国際出願番号:    PCT/JP2005/014850
国際公開日: 16.02.2006 国際出願日: 12.08.2005
IPC:
H01L 21/205 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
IIZUKA, Hachishiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YASUMURO, Akira [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KIMURA, Koichiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TSUJI, Norihiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: IIZUKA, Hachishiro; (JP).
YASUMURO, Akira; (JP).
KIMURA, Koichiro; (JP).
TSUJI, Norihiko; (JP)
代理人: YOSHITAKE, Kenji; Kyowa Patent & Law Office Room 323, Fuji Bldg. 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
優先権情報:
2004-235872 13.08.2004 JP
2005-022181 28.01.2005 JP
発明の名称: (EN) FILM FORMING APPARATUS AND VAPORIZER
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM ET VAPORISEUR
(JA) 成膜装置および気化器
要約: front page image
(EN)A film forming apparatus having a raw material supplying section for supplying a raw material composed of a liquid or a gas-liquid mixture, a raw material vaporizing section for vaporizing the raw material to form a raw material gas, and a film forming section for conducting a film forming treatment using the raw material gas formed, wherein a filter (153) is provided on the way of the transport path for the raw material gas from the raw material vaporizing section to an introduction port of the film forming section, and wherein an outer edge (153a) of the filter (153) is pressed to the inner surface of the transport path over the whole perimeter thereof by a cyclic supporting member (158), which is less prone to be deformed by a loading in the direction of pressing than the above outer edge (153a), and is fixed to the inner surface of the transport path in a state of being compressed between the inner surface of the transport path and the supporting member (158).
(FR)L'invention concerne un dispositif de formation de film comportant une section d'alimentation en matériau brut destiné à fournir un matériau brut composé d'un liquide ou d'un mélange gaz - liquide, une section de vaporisation de matériau brut afin de former un gaz de matériau brut et une section de formation de film destinée à conduire un traitement de formation de film en utilisant le gaz de matériau brut formé, où un filtre (153) est prévu sur le trajet de la voie de transport du gaz de matériau brut depuis la section de vaporisation de matériau brut jusqu'à un orifice d'introduction de la section de formation de film, et où une bordure extérieure (153a) du filtre (153) est pressée sur la surface intérieure de la voie de transport sur le périmètre entier de celle-ci grâce à un élément cyclique de support (158) qui est moins susceptible de se déformer par une charge dans la direction de pressage que la bordure extérieure ci-dessus (153a), et qui est fixé sur la surface intérieure de la voie de transport à l'état comprimé entre la surface intérieure de la voie de transport et l'élément de support (158).
(JA) 液体もしくは気液混合物で構成される原料を供給する原料供給部と、原料を聞かして原料ガスを生成する原料気化部と、生成された原料ガスを用いて成膜処理を行う成膜部とを有する成膜装置において、原料気化部から成膜部の導入部分に至る原料ガスの輸送経路の途中にフィルタ153が配置される。フィルタ153の外縁153aは、押圧方向の負荷に対して前記外縁153aよりも変形し難い環状の支持部材158により、その全周に亘って輸送経路の内面に対して押しつけられ、輸送経路の内面と支持部材158との間で圧縮された状態で、輸送経路の内面に固定される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)