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1. (WO2006016551) 露光装置の制御方法、これを用いた露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/016551    国際出願番号:    PCT/JP2005/014512
国際公開日: 16.02.2006 国際出願日: 08.08.2005
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MATUNARI, Syuuiti [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MATUNARI, Syuuiti; (JP)
代理人: FUKUDA, Mitsuhiro; Sanshin-Hirose Bldg. 5F 6-1, Uchikanda 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1010047 (JP)
優先権情報:
2004-232086 09.08.2004 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR CONTROLLING EXPOSURE SYSTEM, EXPOSURE METHOD AND SYSTEM USING SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE CONTRÔLE DE SYSTÈME D’EXPOSITION, PROCÉDÉ D’EXPOSITION ET SYSTÈME UTILISANT LEDIT PROCÉDÉ, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF
(JA) 露光装置の制御方法、これを用いた露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method for controlling an exposure system which enables to maintain good characteristics of an optical device for a long time. Specifically, the partial pressure of a gas such as an oxidizing gas or a coating film-forming gas as the deterioration factor is monitored by a mass spectrometer (87), and a deterioration suppressing gas is accordingly supplied into a vacuum container (84) from a gas supply unit (86) under the control of a control unit (90). Consequently, the optical characteristics of an optical device constituting a projection optical system (70) or the like can be kept good for a long time. In addition, lowering in reflectance of an optical device constituting the projection optical system (70) or the like is monitored by an illuminance sensor (88), and the deterioration suppressing gas is accordingly supplied into the vacuum container (84) from the gas supply unit (86) under the control of the control unit (90). This operation also enables an optical device constituting the projection optical system (70) or the like to have good optical characteristics for a long time.
(FR)Le procédé ci-décrit permet de contrôler un système d’exposition qui permet à un dispositif optique de maintenir de bonnes caractéristiques pendant une durée étendue. Spécifiquement, la pression partielle d’un gaz tel qu’un gaz oxydant ou un gaz de formation de film protecteur comme facteur de détérioration est surveillée par un spectromètre de masse (87) et un gaz d’élimination de la détérioration est fourni en conséquence dans un récipient à vide (84) à partir d’une unité d’alimentation en gaz (86) sous le contrôle d’une unité de commande (90). Par conséquent, les caractéristiques optiques d’un dispositif optique constituant un système de projection optique (70) ou similaire peuvent être conservées pendant une durée étendue. De plus, l’abaissement de la réflectance d’un dispositif optique constituant le système de projection optique (70) ou similaire est surveillé par un capteur d’éclairement (88) et le gaz d’élimination de la détérioration est fourni en conséquence dans le récipient à vide (84) à partir de l’unité d’alimentation en gaz (86) sous le contrôle de l’unité de commande (90). Cette opération permet également à un dispositif optique constituant le système de projection optique (70) ou similaire de conserver de bonnes caractéristiques optiques pendant une durée étendue.
(JA) 光学素子の特性を長期間にわたって良好に維持することができる露光装置の制御方法を提供することを目的とする。質量分析装置87によって酸化性ガスや被膜形成ガスである劣化要因ガスの分圧が監視されており、制御装置90の制御下でガス供給装置86からの劣化抑制ガスが真空容器84中に適宜導入されるので、投影光学系70等を構成する光学素子の光学特性を長期間にわたって良好に維持することができる。また、照度センサ88によって投影光学系70等を構成する光学素子の反射率低下が監視されており、制御装置90の制御下でガス供給装置86からの劣化抑制ガスが真空容器84中に適宜導入される。これによっても、投影光学系70等を構成する光学素子の光学特性を長期間にわたって良好に維持することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)