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1. (WO2006016489) 基板処理方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/016489    国際出願番号:    PCT/JP2005/013938
国際公開日: 16.02.2006 国際出願日: 29.07.2005
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SHIMOAOKI, Takeshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KYOUDA, Hideharu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NIWA, Takafumi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SHIMOAOKI, Takeshi; (JP).
KYOUDA, Hideharu; (JP).
NIWA, Takafumi; (JP)
代理人: TAKAYAMA, Hiroshi; 7th Floor, Daiichi Shinwa Building 10-8, Akasaka 2-chome Minato-ku, Tokyo 107-0052 (JP)
優先権情報:
2004-232085 09.08.2004 JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE PROCESSING METHOD
(FR) METHODE DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT
(JA) 基板処理方法
要約: front page image
(EN)A resist film is formed on a wafer surface, and an exposure beam is transmitted between an optical component, which faces the resist film to irradiate the resist film with the exposure beam, and the wafer surface. A liquid layer is formed of a liquid having a function of cleaning the wafer surface and the surface of the optical component, and the resist film is irradiated with the exposure beam projected from the optical component through the liquid layer in a prescribed pattern. The exposure completed wafer is developed and a prescribed pattern is formed on the wafer.
(FR)Un film protecteur est formé sur une surface gaufrette, et un faisceau d'exposition est transmis entre un composant optique faisant face au film protecteur pour l’irradier avec le faisceau d'exposition, et la surface gaufrette. Une couche liquide est formée par un liquide ayant une fonction de nettoyage de la surface gaufrette et de la surface du composant optique, et le film protecteur est irradié par le faisceau d'exposition projeté depuis le composant optique à travers la couche liquide selon un schéma recommandé. Une fois l'exposition terminée, la gaufrette est développée et le schéma recommandé se forme sur celle-ci.
(JA) ウエハの表面にレジスト膜を形成し、レジスト膜に露光光線を照射するためにレジスト膜と対面する光学部品とウエハの表面との間に、露光光線を透過し、かつ、ウエハの表面および光学部品の表面を洗浄する機能を有する液体で液層を形成し、光学部品から照射される露光光線を液層を通してレジスト膜に所定のパターンで照射することでレジスト膜を露光し、露光が終了したウエハを現像し、ウエハに所定のパターンを形成する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)