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1. (WO2006013808) 熱処理装置及び基板の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/013808    国際出願番号:    PCT/JP2005/014016
国際公開日: 09.02.2006 国際出願日: 01.08.2005
IPC:
H01L 21/22 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01), H01L 21/324 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01)
出願人: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. [JP/JP]; 14-20, Higashi-Nakano 3-chome, Nakano-ku, Tokyo 1648511 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SASAJIMA, Ryota [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKAMURA, Iwao [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MOROHASHI, Akira [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMAMOTO, Ryuji [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SASAJIMA, Ryota; (JP).
NAKAMURA, Iwao; (JP).
MOROHASHI, Akira; (JP).
YAMAMOTO, Ryuji; (JP)
代理人: PATENT RELATED CORPORATION IPS; 15F., Yokohama Creation Square 5-1, Sakaecho Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 22210052 (JP)
優先権情報:
2004-230135 06.08.2004 JP
2005-007278 14.01.2005 JP
発明の名称: (EN) HEAT TREATMENT APPARATUS AND METHOD OF PRODUCING SUBSTRATE
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT THERMIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT
(JA) 熱処理装置及び基板の製造方法
要約: front page image
(EN)A heat treatment apparatus and a method of producing a substrate capable of preventing fall of particles produced by friction between a support piece and a support member. A heat treatment apparatus (10) has a reaction furnace (40) for processing substrates (54) and a supporter (30) for supporting the substrates (54) in the reaction furnace (40). The supporter (30) has support sections (57) in contact with the substrates (54) and support pieces (67) for supporting the substrates (54). On the rear side of a support section (57) is provided a projection or a recess, and the rear side of the support section (57) is constructed such that it comes into contact with the upper side of the support piece (67) at a position more inward than the edge of the support member (67), without it coming into contact with the edge of a support piece (67).
(FR)L’invention porte sur un appareil de traitement thermique et un procédé de fabrication d’un substrat capable d’empêcher la chute de particules produites par friction entre une pièce de support et un élément de support. Un appareil de traitement thermique (10) possède un four de réaction (40) pour traiter les substrats (54) et un élément support (30) pour transporter les substrats (54) dans le four de réaction (40). L’élément support (30) possède des sections de support (57) au contact des substrats (54) et des pièces de support (67) pour transporter les substrats (54). Sur le côté arrière d’une section de support (57) se trouve une partie saillante ou un retrait, et la partie arrière de la section de support (57) est construite pour venir au contact du côté supérieur de la pièce de support (67) en une position plus interne que le bord de l’élément support (67), sans venir au contact avec le bord d’une pièce de support (67).
(JA)支持片と支持部材との擦れにより発生するパーティクルの落下を防止することができる熱処理装置および基板の製造方法を提供する。熱処理装置10は、基板を処理する反応炉40と反応炉40内で基板54を支持する支持具30とを有する。この支持具30は、基板54と接触する支持部57と、該支持部57を支持する支持片67とを有する。支持部57の裏面には凸部または凹部が設けられ、支持部54の裏面は、支持片67の縁とは接触することなく、支持片67の縁よりも内側で支持片67上面と接触するように構成されている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)