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1. (WO2006011287) 2-オキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン-3-オン環を有する繰り返し単位を含む高分子化合物、及びフォトレジスト用樹脂組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/011287    国際出願番号:    PCT/JP2005/009522
国際公開日: 02.02.2006 国際出願日: 25.05.2005
IPC:
C08F 20/28 (2006.01), G03F 7/033 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 1, Teppo-cho, Sakai-shi Osaka 5908501 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KOYAMA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ASADA, Takeshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KOYAMA, Hiroshi; (JP).
ASADA, Takeshi; (JP)
代理人: GOTO, Yukihisa; Masuda Bldg. 202 7-16, Higashitenma 2-chome Kita-ku, Osaka-shi Osaka 5300044 (JP)
優先権情報:
2004-217768 26.07.2004 JP
発明の名称: (EN) POLYMERIC COMPOUND CONTAINING REPEATING UNIT HAVING 2-OXATRICYCLO[4.2.1.04,8]NONAN-3-ONE RING, AND PHOTORESIST RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSE POLYMÈRE CONTENANT UN MOTIF RÉPÉTÉ AYANT UN ANNEAU DE 2-OXATRICYCLO[4.2.1.04,8]NONAN-3-ONE, ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTORÉSISTANTE
(JA) 2-オキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン-3-オン環を有する繰り返し単位を含む高分子化合物、及びフォトレジスト用樹脂組成物
要約: front page image
(EN)A polymeric compound comprising at least one monomer unit represented by the formula: (I) (wherein Ra is a hydrogen atom, a halogen atom, or a C1-C6 alkyl or C1-C6 haloalkyl; each of R1 and R2 independently is a hydrogen atom or a hydrocarbon group with the proviso that at least one of R1 and R2 is a hydrocarbon group and that R1 and R2 may be bonded with each other to thereby form a ring in cooperation with an adjacent carbon atom; and each of R3, R4, R5, R6, R7, R8 and R9 independently is a hydrogen atom or a hydrocarbon group). This polymeric compound is useful as a constituent monomer of photoresist resin.
(FR)L'invention concerne un composé polymère comprenant au moins un motif monomère représenté par la formule : (I) (dans laquelle Ra est un atome d’hydrogène, un atome d’halogène ou un alkyle en C1-C6 ou un haloalkyle en C1-C6 ; chacun de R1 et R2 est indépendamment un atome d’hydrogène ou un groupe hydrocarbure, avec pour condition qu’au moins l’un de R1 et R2 soit un groupe hydrocarbure et que R1 et R2 puissent être liés l’un à l’autre pour former ainsi un anneau en association avec un atome de carbone adjacent ; et chacun de R3, R4, R5, R6, R7, R8 et R9 est indépendamment un atome d’hydrogène ou un groupe hydrocarbure). Ce composé polymère est utile en tant que monomère constitutif de résines photorésistantes.
(JA) 下記式(I) (式中、Raは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~6のアルキル基又は炭素数1~6のハロアルキル基を示す。R1、R2は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す。但し、R1、R2のうち少なくとも一方は炭化水素基である。R1及びR2は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す) で表される少なくとも1種のモノマー単位を含む高分子化合物。この高分子化合物は、フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)