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World Intellectual Property Organization
1. (WO2006011252) シリカゾル及びその製造方法

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/011252    国際出願番号:    PCT/JP2005/000551
国際公開日: 02.02.2006 国際出願日: 18.01.2005
予備審査請求日:    25.01.2006    
C01B 33/141 (2006.01)
出願人: FUSO CHEMICAL CO. LTD. [JP/JP]; 3-10, Kouraibashi 4-chome Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 541-0043 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YAMAKAWA, Yasuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TOMODA, Yoshiaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TOYAMA, Keiji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SAKAI, Masatoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YAMAKAWA, Yasuhiro; (JP).
TOMODA, Yoshiaki; (JP).
TOYAMA, Keiji; (JP).
SAKAI, Masatoshi; (JP)
代理人: KIYOHARA, Yoshihiro; 1-23, Sonezaki-shinchi 2-chome Kita-ku, Osaka-shi Osaka 530-0002 (JP)
2004-217655 26.07.2004 JP
(JA) シリカゾル及びその製造方法
要約: front page image
(EN)[PROBLEMS] To provide a silica sol which is suitable for use as a material for, e.g., an abrasive material for electronic materials, silicon wafers, and the like which are required to have a high purity, has excellent sol stability, can hence be easily made to have an increased silica concentration, and can be regulated so as to have a silica concentration equal to or higher than that of silica sols produced from water glass. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] The silica sol comprises water and fine silica particles dispersed therein, and is characterized in that the fine silica particles have a secondary-particle diameter of 10-1,000 nm, a metal impurity content of 1 ppm or lower, and a silica concentration of 10-50 wt.%. Also provided is a process for producing a stable silica sol characterized by comprising the following steps (a) and (b). (a) A first step in which a hydrolyzable silicon compound is hydrolyzed and condensation-polymerized to produce a silica sol. (b) A second step in which the silica sol obtained in the first step is concentrated to a silica concentration not higher than a certain value according to the particle diameter and the dispersion medium and alkali catalyst in the silica sol are replaced with water to regulate the pH to 6.0-9.0.
(FR)L'invention concerne un sol de silice lequel convient pour être utilisé comme matière pour, par exemple, une matière abrasive pour des matériaux pour l'électronique, des plaques de silicium et similaires qui doivent avoir une pureté élevée, lequel a une excellente stabilité du sol et dont on peut donc facilement augmenter la concentration en silice et qu'on peut contrôler de façon à avoir une concentration en silice supérieure ou égale à celle de sols de silice produits à partir de silicate de sodium. Le sol de silice comprend de l'eau et de fines particules de silice dispersées dans celle-ci et il est caractérisé en ce que les fines particules de silice ont un diamètre des particules secondaires de 10-1 000 nm, une teneur des impuretés en métal inférieure ou égale à 1 ppm et une concentration en silice de 10-50 % en poids. L'invention concerne également un procédé servant à produire un sol de silice stable caractérisé en ce qu'il comprend les étapes (a) et (b) suivantes : (a) une première étape dans laquelle on hydrolyse un composé du silicium hydrolysable et on le polymérise par condensation pour produire un sol de silice ; (b) une seconde étape dans laquelle on concentre le sol de silice obtenu dans la première étape à une concentration en silice qui n'est pas supérieure à une certaine valeur qui est fonction du diamètre des particules et on remplace le milieu de dispersion et le catalyseur alcalin présents dans le sol de silice par de l'eau pour contrôler le pH à une valeur de 6,0-9,0.
(JA)(課題) 高純度であることが要求される電子材料やシリコンウェハーなどの研磨材などの素材として好適に用いることができ、しかも、ゾルの安定性に優れるために、シリカ濃度の高濃度化が容易であり、水ガラスから製造されたシリカゾルと同等以上のシリカ濃度に調整することができるシリカゾル及びその製造方法を提供すること。 (解決手段)シリカ微粒子が水中に分散してなるシリカゾルであって、該シリカ微粒子の二次粒子径が10~1000nm、金属不純物含有量が1ppm以下、シリカ濃度が10~50重量%であることを特徴とするシリカゾルとする。 また、以下の(a)及び(b)の各工程を含むことを特徴とする安定なシリカゾルの製造方法とする。 (a) 加水分解可能なケイ素化合物を加水分解及び重縮合させてシリカゾルを製造する第一の工程。 (b)  第一の工程で得られたシリカゾルを粒径に応じて一定シリカ濃度以下で濃縮並びにシリカゾル中の分散媒及びアルカリ触媒を水で置換し、pHを6.0~9.0とする第二の工程。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)