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1. (WO2005111345) 免震構造
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2005/111345    国際出願番号:    PCT/JP2005/008746
国際公開日: 24.11.2005 国際出願日: 13.05.2005
IPC:
E04H 9/02 (2006.01), E04B 1/36 (2006.01), E04H 5/02 (2006.01), F16F 15/02 (2006.01)
出願人: TAISEI CORPORATION [JP/JP]; 25-1, Nishi-Shinjuku 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630606 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KAWATA, Masayoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
IZUMO, Yoji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
FUKUMOTO, Yosuke [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KAWATA, Masayoshi; (JP).
IZUMO, Yoji; (JP).
FUKUMOTO, Yosuke; (JP)
代理人: SHIMIZU, Chiharu; 4th Floor, Nakagin-Shiroyama Bldg. 16-13, Ginza 8-chome Chuo-ku, Tokyo 104-0061 (JP)
優先権情報:
2004-146189 17.05.2004 JP
2005-137100 10.05.2005 JP
発明の名称: (EN) BASE ISOLATION STRUCTURE
(FR) STRUCTURE D'ISOLATION BASIQUE
(JA) 免震構造
要約: front page image
(EN)A base isolation structure capable of securing stable operation since there is no such a possibility that micro-vibration usually produced does not exceed a requested allowable vibration value by developing base isolating effects in earthquake to prevent heavy damages from occurring and effectively isolating a structure in which vibration-reluctant apparatuses are disposed such as a semiconductor manufacturing plant from earthquake. A base isolation device (4) by a rigid sliding bearing having such a rigidity in the vertical and horizontal directions that micro vibration transmitted to the structure (1) can be reduced to a value smaller than the allowable vibration value determined according to the degree of the reluctance of the apparatuses is disposed between the structure (1) in which the micro vibration-reluctant apparatuses are disposed and the foundation (3) of the structure.
(FR)Une structure d'isolation basique capable de sécuriser une opération stable quand il n'y a pas de possibilité que les micro-vibrations habituellement produites ne dépassent pas une valeur de vibration admissible demandée en développant des effets d'isolation basique lors d'un tremblement de terre pour éviter à de lourds dommages de se produire et d'isoler efficacement d'un tremblement de terre une structure dans laquelle des appareils sensibles aux vibrations sont disposés, tel que des équipements de fabrication de semi-conducteurs. Un dispositif d'isolation basique (4) formé d'une surface portante coulissante rigide ayant une telle rigidité dans les directions verticales et horizontales que les micro-vibrations transmises à la structure peuvent être réduites à une valeur plus petite que la valeur de vibration admissible déterminée d'après le degré de sensibilité des appareils est placé entre la structure (1) dans laquelle sont placés les appareils sensibles aux micro-vibrations et la base (3) de la structure.
(JA) 本発明の課題は、平常時に生じる微振動に対しても要求される振動許容値を超える虞が無く、よって安定的な操業を確保することができるとともに、地震時には、免震効果を発揮して大きな被害が発生することを未然に防止することができ、よって半導体製造工場等の嫌振機器が配置された構造物を効果的に免震化することが可能となる免震構造を提供することである。この課題を解決するために、本発明においては、微振動を嫌う機器類が配置された構造物(1)とその基礎(3)との間に、構造物(1)に伝達される微振動が機器類の嫌振程度に起因する振動許容値よりも小さくなるような鉛直方向および水平方向の剛性を有する剛すべり支承による免震装置(4)を配置した。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)