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1. (WO2005109100) 感放射線性樹脂組成物、スペーサー、およびその形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2005/109100    国際出願番号:    PCT/JP2005/003090
国際公開日: 17.11.2005 国際出願日: 18.02.2005
IPC:
G02F 1/1339 (2006.01), G03F 7/032 (2006.01)
出願人: JSR CORPORATION [JP/JP]; 6-10, Tsukiji 5-chome Chuo-ku, Tokyo 104-0045 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KAJITA, Toru [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ICHINOHE, Daigo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SHIHO, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KAJITA, Toru; (JP).
ICHINOHE, Daigo; (JP).
SHIHO, Hiroshi; (JP)
代理人: OHSHIMA, Masataka; Ohshima Patent Office BN Gyoen Building 17-11, Shinjuku 1-chome Shinjuku-ku, Tokyo 160-0022 (JP)
優先権情報:
2004-137257 06.05.2004 JP
発明の名称: (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, SPACER, AND METHOD OF FORMING THE SAME
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT, ESPACEUR, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE CELLE-CI
(JA) 感放射線性樹脂組成物、スペーサー、およびその形成方法
要約: front page image
(EN)A radiation-sensitive resin composition which has high sensitivity and high resolution, can readily form a patterned thin film excellent in various performances including pattern shape, compression strength, rubbing resistance, and adhesion to transparent substrates, and is inhibited from emitting sublimates upon burning; a spacer formed from the composition; and a method of forming the spacer. The radiation-sensitive resin composition is characterized by comprising (A) a polymer which has carboxy and epoxy groups and in which the ratio of the weight-average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene to the number-average molecular weight (Mn) in terms of polystyrene both measured by gel permeation chromatography, (Mw/Mn), is 1.7 or lower, (B) a polymerizable unsaturated compound, and (C) a radiation-sensitive polymerization initiator.
(FR)Une composition de résine sensible au rayonnement qui présente une haute sensibilité et une haute résolution, peut facilement former un film mince à motifs excellent en termes de plusieurs performances dont la forme des motifs, la résistance à la compression, la résistance au frottement, et l’adhésion aux substrats transparents, et est empêchée d'émettre des sublimés au cours du brûlage; un espaceur formé à partir de la composition; et un procédé de formation de l’espaceur. La composition de résine sensible au rayonnement est caractérisée en ce qu’elle comprend (A) un polymère qui a des groupes carboxy et époxy et dans lequel le rapport du poids moléculaire moyen pondéral (Mw) en termes de polystyrène au poids moléculaire moyen en nombre (Mn) en termes de polystyrène mesurés tous deux par chromatographie d’exclusion diffusion, (Mw/Mn), est de 1,7 ou moins, (B) un composé insaturé polymérisable, et (C) un initiateur de polymérisation sensible au rayonnement.
(JA)高感度、高解像度であり、かつパターン形状、圧縮強度、ラビング耐性、透明基板との密着性等の諸性能に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができ、焼成時の昇華物の発生が抑制された感放射線性樹脂組成物、それから形成されたスペーサー、およびその形成方法を提供すること。(A)カルボキシル基およびエポキシ基を有し且つゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)とポリスチレン換算数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)が1.7以下である重合体、(B)重合性不飽和化合物および(C)感放射線性重合開始剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)