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1. (WO2005106595) 露光装置及びパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2005/106595    国際出願番号:    PCT/JP2005/008116
国際公開日: 10.11.2005 国際出願日: 28.04.2005
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
出願人: INTEGRATED SOLUTIONS CO., LTD. [JP/JP]; 46-4, Sendagi 5-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1130022 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ITO, Miyoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ITO, Miyoshi; (JP)
代理人: SASAJIMA, Fujio; Toranomon 1-chome Mori Bldg, 19-5, Toranomon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
優先権情報:
2004-134442 28.04.2004 JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE APPARATUS AND PATTERN FORMING METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION et procédé de formation de motif
(JA) 露光装置及びパターン形成方法
要約: front page image
(EN)An exposure apparatus is provided with a light deflecting means (10) provided in an exposure optical system (3) for deflecting laser beams in a shifting direction of a glass board (8), an image pickup means (5) for picking up an image of a position on a front side in the shifting direction of the glass board (8) to a scanning position of the laser beams irradiated on the glass board (8), and an optical system control means (7), which controls a deflecting angle of the light deflecting means (10) and processes the image obtained by the image pickup means (5). The optical system control means (7) changes the deflecting angle of the light deflecting means (10) during laser beam scanning to deflect the laser beams to a rear part in the shifting direction of the glass board (8), and based on the deflection start time of the light deflecting means (10) and a time when the image pickup means (5) picked up the deflected laser beams, a relative distance of the laser beam scanning position to an image pickup position of the image pickup means (5) is calculated, and controls the deflecting angle of the light deflecting means (10) so as to have the calculated relative distance at a prescribed value. Thus, alignment accuracy of the functional pattern is improved and cost increase of an exposure apparatus is suppressed.
(FR)Un appareil d'exposition est doté d'un moyen de déflexion de lumière (10) muni d'un système optique d'exposition (3) afin de dévier des faisceaux laser dans un sens de décalage d'une plaque de verre (8), d'un moyen de lecture d'image (5) destiné à capter l'image d'une position sur la face avant dans le sens de décalage de la plaque de verre (8) sur une position de balayage des faisceaux laser rayonnés sur la plaque de verre (8) et d'un moyen de commande de système optique (7) qui commande l'angle de déflexion du moyen de déflexion de lumière (10) et qui traite l'image obtenue par le moyen de lecture d'image (5). Le moyen de commande de système optique (7) modifie l'angle de déflexion du moyen de déflexion de lumière (10) pendant le balayage des faisceaux laser afin de dévier les faisceaux laser vers une partie arrière dans le sens de décalage de la plaque de verre (8) et, sur la base de l'instant de début de déflexion du moyen de déflexion de lumière (10) et d'un instant où le moyen de lecture d'image (5) a capté les faisceaux laser déviés, il est calculé une distance relative de la position de balayage du faisceau laser par rapport à une position de lecture d'image du moyen de lecture d'image (5), et il commande l'angle de déflexion du moyen de déflexion de lumière (10) de façon à ce que la distance relative calculée se trouve à une valeur prescrite. Ainsi, la précision d'alignement du motif fonctionnel est améliorée et l'augmentation de coût de l'appareil d'exposition est diminuée.
(JA) 露光光学系3に備えられレーザビームをガラス基板8の移動方向に偏向する光偏向手段10と、前記ガラス基板8へ照射されるレーザビームの走査位置に対してガラス基板8の移動方向手前側の位置を撮像する撮像手段5と、光偏向手段10の偏向角を制御すると共に撮像手段5で取得した画像を処理する光学系制御手段7とを備え、光学系制御手段7によりレーザビームの走査中に光偏向手段10の偏向角を変化させてレーザビームをガラス基板8の移動方向の後方に振り、光偏向手段10の偏向開始時刻と上記振られたレーザビームを撮像手段7で検出した時刻とに基づいてレーザビームの走査位置と撮像手段5の撮像位置との相対距離を演算し、該演算した相対距離が所定の値となるように光偏向手段10の偏向角を制御するものである。これにより、機能パターンの重ね合わせ精度を向上すると共に露光装置のコストアップを抑制する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)