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1. (WO2005106591) 露光パターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2005/106591    国際出願番号:    PCT/JP2005/008115
国際公開日: 10.11.2005 国際出願日: 28.04.2005
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
出願人: INTEGRATED SOLUTIONS CO., LTD. [JP/JP]; 9-9, Kita-Shinagawa 4-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1400001 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ITO, Miyoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ITO, Miyoshi; (JP)
代理人: SASAJIMA, Fujio; Toranomon 1-chome Mori Bldg 19-5, Toranomon 1-chome Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
優先権情報:
2004-134441 28.04.2004 JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE PATTERN FORMING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF D'EXPOSITION
(JA) 露光パターン形成方法
要約: front page image
(EN)A reference glass board (8B) whereupon a reference pattern (P) to be an exposure position reference is previously formed is arranged on a lower side of a glass board (8A), and is transferred in an arrow A direction by a transfer means (4). The reference pattern (P) is illuminated from the lower part of the transfer means (4) by the illuminating means (6), and an image of the reference pattern (P) is picked up by an image pickup means (5) arranged on an upper part of the transfer means (4). An optical system control means (7) detects a reference position previously set to the reference pattern (P) of which the image is picked up by the image pickup means (5), and controls irradiation start or irradiation stop of laser beams, having the reference position as a reference. Then, a pixel of a black matrix to be a reference of a functional pattern formed by being laminated on the glass board (8A) is exposed at a prescribed position on the glass board (8A). Thus, alignment accuracy of the functional pattern is improved and cost increase of an exposure apparatus is suppressed.
(FR)Une plaque de verre de référence (8B), sur laquelle est formé au préalable un motif de référence (P) devant représenter une référence de position d'exposition, est agencée sur le côté inférieur d'une plaque de verre (8A), et elle est transférée dans le sens de la flèche A par un moyen de transfert (4). Le motif de référence (P) est éclairé depuis la partie inférieure du moyen de transfert (4) par le moyen d'illumination (6) et une image du motif de référence (P) est captée par un moyen de lecture d'image (5) agencé sur la partie supérieure du moyen de transfert (4). Un moyen de commande de système optique (7) détecte une position de référence établie au préalable sur le motif de référence (P) dont l'image est captée par le moyen de lecture d'image (5), et il commande le début de l'éclairement ou la fin de l'éclairement de faisceaux laser, en présentant la position de référence comme une référence. Ensuite, un pixel d'une matrice noire destinée à représenter une référence de motif fonctionnel formé en étant stratifié sur la plaque de verre (8A) est insolé à une position prescrite sur la plaque de verre (8A). Ainsi, la précision d'alignement du motif fonctionnel est améliorée et l'augmentation de coût de l'appareil d'exposition est diminuée.
(JA) ガラス基板8Aの下側に露光位置の基準となる基準パターンPを予め形成した基準ガラス基板8Bを配置して搬送手段4により矢印A方向に搬送し、照明手段6により前記搬送手段4の下方から前記基準パターンPを照明し、前記搬送手段4の上方に配設した撮像手段5により前記基準パターンPを撮像し、光学系制御手段7により前記撮像手段5で撮像された前記基準パターンPに予め設定された基準位置を検出し、該基準位置を基準にして前記レーザビームの照射開始又は照射停止の制御をし、前記ガラス基板8A上に積層形成される機能パターンの基準となるブラックマトリクスのピクセルを前記ガラス基板8Aの所定位置に露光する。これにより、機能パターンの重ね合わせ精度を向上すると共に露光装置のコストアップを抑制する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)