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1. (WO2005105755) 5-ジフルオロメトキシ-4-チオメチルピラゾール化合物の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2005/105755    国際出願番号:    PCT/JP2005/007847
国際公開日: 10.11.2005 国際出願日: 25.04.2005
IPC:
C07D 231/20 (2006.01)
出願人: IHARA CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. [JP/JP]; 4-26, Ikenohata 1-chome, Taito-ku, Tokyo 1108782 (JP) (米国を除く全ての指定国).
UCHIDA, Yukio [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: UCHIDA, Yukio; (JP)
代理人: SENMYO, Kenji; Torimoto Kogyo Bldg. 38, Kanda-Higashimatsushitacho Chiyoda-ku Tokyo 101-0042 (JP)
優先権情報:
2004-132764 28.04.2004 JP
発明の名称: (EN) PROCESS FOR THE PRODUCTION OF 5-DIFLUOROMETHOXY -4-THIOMETHYLPYRAZOLES
(FR) PROCESSUS DE PRODUCTION DE 5-DIFLUOROMÉTHOXY -4-THIOMÉTHYLPYRAZOLES
(JA) 5-ジフルオロメトキシ-4-チオメチルピラゾール化合物の製造方法
要約: front page image
(EN)A process for producing 5-difluoromethoxy-4-thiomethyl- pyrazoles easily in high yield, namely, a process for the production of 5-difluoromethoxy-4-thiomethylpyrazoles represented by the general formula (3): [wherein R1 is alkyl or the like; R2 is an electron-attracting group; R3 is alkyl or the like; and n is 0 or 2], characterized by reacting a 5-hydroxy-4-thiomethylpyrazole represented by the general formula (1): [wherein R1, R2, R3 and n are each as defined above] with a difluoromethyl halide represented by the general formula (2): CHF2X [wherein X is halogeno] in the presence of either a dialkyl ketone or an alkyl nitrile, and sodium hydroxide. According to the process, the objective compounds can be produced by simple and easy operation. Further, the process little suffers from decomposition of raw materials or products and brings about remarkable reduction in reaction time, thus having high industrial usefulness.
(FR)Un processus pour produire facilement du 5-difluorométhoxy-4-thiométhyl- pyrazoles en masse, à savoir un processus de production de 5-difluorométhoxy-4-thiométhylpyrazoles représenté par la formule générale (3) : (3) [où R1 est un alkyle ou similaire, R2 est un groupe attractif d'électrons, R3 est un alkyle ou similaire et n vaut 0 ou 2], caractérisé par la réaction d'un 5-hydroxy-4-thiométhylpyrazole représenté par la formule générale (1) : (1) [où R1, R2, R3 et n sont chacun tels que définis ci-dessus] avec un halogénure de difluorométhyle représenté par la formule générale (2) : CHF2X (2) [où X est halogène] en présence soit de cétone de dialkyle, soit d'un nitrile d'alkyle et d'hydroxyde de sodium. Selon le processus, les composés objectifs peuvent être produits par une opération simple. De plus, le processus souffre peu de la décomposition des matières premières des produits et apporte une réduction remarquable du temps de réaction, il a ainsi une forte efficacité industrielle.
(JA) 5-ジフルオロメトキシキシ-4-チオメチルピラゾール化合物を簡便に、且つ収率良く製造する方法の提供。  一般式(1) (式中、Rは、アルキル基等を、Rは電子吸引性基を、Rはアルキル基等を、nは0又は2を示す。)で表される5-ヒドロキシ-4-チオメチルピラゾール化合物と、一般式(2) (式中、Xはハロゲン原子を示す。)で表されるハロゲン化ジフルオロメタンを、ジアルキルケトン又はアルキルニトリル、及び水酸化ナトリウムの存在下で反応させる事を特徴とする、一般式(3) (式中、R、R、R及びnは前記と同じ意味を示す。)で表される5-ジフルオロメトキシ-4-チオメチルピラゾール化合物の製造方法。  目的物を簡便な操作で製造できる。更に、本発明方法では原料や生成物の分解が少なく、反応時間も大幅に短縮されることから、工業的な利用価値が高い。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)