WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2005089962) フッ化ビニリデン単独重合体薄膜の形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2005/089962    国際出願番号:    PCT/JP2005/004102
国際公開日: 29.09.2005 国際出願日: 09.03.2005
IPC:
B05D 7/24 (2006.01), B32B 27/30 (2006.01), C08F 8/00 (2006.01), C08F 14/22 (2006.01)
出願人: DAIKIN INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; Umeda Center Building, 4-12, Nakazaki-Nishi 2-Chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308323 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ARAKI, Takayuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KODANI, Tetsuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ARAKI, Takayuki; (JP).
KODANI, Tetsuhiro; (JP)
代理人: ASAHINA, Sohta; NS Building, 2-22, Tanimachi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400012 (JP)
優先権情報:
2004-083289 22.03.2004 JP
2004-231250 06.08.2004 JP
発明の名称: (EN) PROCESS FOR FORMING VINYLIDENE FLUORIDE HOMOPOLYMER THIN FILMS
(FR) PROCÉDÉ SERVANT À PRODUIRE DES FILMS MINCES D'HOMOPOLYMÈRES DE FLUORURE DE VINYLIDÈNE
(JA) フッ化ビニリデン単独重合体薄膜の形成方法
要約: front page image
(EN)A process by which thin films made of vinylidene fluoride homopolymers terminated with functional groups for imparting specific functions and having type I crystal structure can be formed on various substrates relatively simply and easily (in terms of application conditions, technique, and so on). Specifically, a process of forming a vinylidene fluoride homopolymer this film by applying a vinylidene fluoride homopolymer which has at one or both ends one or more groups represented by the general formula (1): -(R1)n - Y (wherein R1 is a divalent organic group except vinylidene fluoride monomer unit; n is 0 or 1; and Y is a functional group for imparting specific functions) and which comprises 3 to 100 vinylidene fluoride repeating units to a substrate to form a vinylidene fluoride homopolymer thin film having type I crystal structure as the sole or main structure.
(FR)Procédé par lequel on peut former sur différents substrats de façon relativement simple et facile (en termes de conditions d'application, de technique et ainsi de suite) des films minces faits d'homopolymères de fluorure de vinylidène terminés par des groupes fonctionnels servant à conférer des fonctions particulières et ayant une structure cristalline de type I. Précisément, procédé de formation d'un film mince d'homopolymères de fluorure de vinylidène en appliquant un homopolymère de fluorure de vinylidène qui a sur au moins une extrémité ou sur les deux extrémités un ou plusieurs groupes représentés par la formule générale (1) : -(R1)n - Y (1) (dans laquelle R1 est un groupe organique divalent qui n'est pas une unité monomère de type fluorure de vinylidène ; n vaut 0 ou 1 ; et Y est un groupe fonctionnel servant à conférer des fonctions particulières) et qui comprend 3 à 100 motifs de fluorure de vinylidène sur un substrat pour former un film mince d'homopolymère de fluorure de vinylidène ayant une structure cristalline de type I comme seule ou principale structure.
(JA) 比較的簡便な方法(被覆条件、手法など)で、種々の基材に適用可能なI型結晶構造の機能性官能基末端フッ化ビニリデン単独重合体の薄膜の形成方法を提供する。フッ化ビニリデンの単独重合体からなる薄膜の形成方法であって、式(1):−(R1n−Y (1)(式中、R1は2価の有機基、ただしフッ化ビニリデン単独重合体単位は含まない;nは0または1;Yは機能性官能基)で表される部位を片末端または両末端に有するフッ化ビニリデン繰返し単位を3~100有するフッ化ビニリデン単独重合体を基材に適用して、I型結晶構造を単独または主成分とするフッ化ビニリデン単独重合体の薄膜を形成するフッ化ビニリデン単独重合体の薄膜の形成方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)