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1. (WO2005087973) 成膜装置及びその成膜方法

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2005/087973    国際出願番号:    PCT/JP2005/004511
国際公開日: 22.09.2005 国際出願日: 15.03.2005
C23C 14/34 (2006.01)
出願人: ULVAC, Inc. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi Kanagawa 2538543 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SUZUKI, Toshihiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MORINAKA, Taizo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MATSUMOTO, Masahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TANI, Noriaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SUZUKI, Toshihiro; (JP).
MORINAKA, Taizo; (JP).
MATSUMOTO, Masahiro; (JP).
TANI, Noriaki; (JP)
代理人: KITAMURA, Kinichi; 703, New Shinbashi Building, 16-1, Shinbashi 2-chome, Minato-Ku Tokyo 1050004 (JP)
2004-073173 15.03.2004 JP
(JA) 成膜装置及びその成膜方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a sputtering film-forming apparatus which is capable of forming a metal compound film with good characteristics at higher film-forming rate by a simple process at low cost. In a vacuum chamber (1), there are arranged a cylindrical rotary drum (4) which is rotated while holding a substrate (3) on the circumferential surface, sputtering means (6, 7) for performing a sputtering process on the substrate held by the rotary drum (4) when the drum is in the sputtering position, and a plasma irradiation means (12) for irradiating the substrate (3) with a reaction gas which has been transformed into a plasma when the rotary drum (4) is in the reaction position. A part of the inner surface of the vacuum chamber (1) facing a region (11) in which the reaction gas is transformed into a plasma by the plasma irradiation means (12) is covered with a dielectric body (15).
(FR)Ce qui est divulgué est un dispositif de filmogène qui est capable de former un film de composé de métal avec de bonnes caractéristiques à un taux élevé de filmogène par un simple procédé à bas prix. Dans une chambre à vide (1), ils sont disposés dans un tambour rotatif cylindrique (4) qui est tourné tout en tenant un substrat (3) sur la surface circonférentielle, des moyens d’amincissement par arrachement ionique (6,7) pour effectuer le processus d’amincissement par arrachement ionique sur le substrat tenu par le tambour rotatif (4) lorsque le tambour est en position d’amincissement par arrachement ionique et des moyens d’irradiation de plasma (12) pour irradier le substrat (3) avec un gaz réactif qui a été transformé en plasma lorsque le tambour rotatif (4) est dans la position de réaction. Une partie de la surface intérieure de la chambre à vide (1) faisant face à une région (11) dans laquelle le gaz réactif est transformé en plasma par les moyens d’irradiation de plasma (12) est couverte de corps diélectrique (15).
(JA) 良好な特性を有する金属化合物膜をより速い成膜速度で形成でき、且つ簡単に低コストで構成できるスパッタリング成膜装置を提供する。  真空チャンバ1内に、基板3を外周に保持して回転する円筒状の回転ドラム4と、回転ドラム4がスパッタリング位置にあるときに回転ドラム4に保持されている基板に対してスパッタリング処理を行うスパッタ手段、6,7と、回転ドラム4が反応位置にあるときに反応ガスをプラズマ化して基板3に対して照射するプラズマ照射手段12とを設け、プラズマ照射手段12によって反応ガスがプラズマ化される領域11に面する真空チャンバ1の内面を誘電体15で覆う。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)