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1. (WO2005085913) 反射防止フィルムおよびその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2005/085913    国際出願番号:    PCT/JP2005/004375
国際公開日: 15.09.2005 国際出願日: 07.03.2005
IPC:
C08J 7/04 (2006.01), G02B 1/11 (2006.01)
出願人: TEIJIN DUPONT FILMS JAPAN LIMITED [JP/JP]; 1-1, Uchisaiwaicho 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-0011 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ASAI, Masato [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ASAI, Masato; (JP)
代理人: OHSHIMA, Masataka; Ohshima Patent Office Fukuya Bldg. 3, Yotsuya 4-chome Shinjuku-ku, Tokyo 160-0004 (JP)
優先権情報:
2004-65417 09.03.2004 JP
2004-116732 12.04.2004 JP
発明の名称: (EN) ANTIREFLECTION FILM AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) COUCHE ANTIREFLET ET PROCESSUS POUR FABRIQUER CELLE-CI
(JA) 反射防止フィルムおよびその製造方法
要約: front page image
(EN)A process for antireflection film production in which the refractive index of a low-refractive-index layer can be regulated even when the same coating fluid is used and which can form a layer having a lower refractive index. The process for antireflection film production comprises applying a coating fluid comprising fine particles coated with an organic polymer, a binder resin, and a water-miscible organic solvent having a boiling point of 100°C or higher to one side of a film base and drying/curing the coating to form a low-refractive-index layer having voids. Also provided is an antireflection film which comprises a film base and a low-refractive-index layer formed on one side thereof, the low-refractive-index layer containing fine particles coated with an organic polymer, having voids, and having a refractive index of 1.10 to 1.29.
(FR)Un processus destiné à la fabrication d'une couche antireflet dans lequel l'indice de réfraction d'une couche à faible indice de réfraction peut être régulé même lorsque le même fluide de revêtement est utilisé et qui peut former une couche présentant un indice de réfraction plus faible. Le processus pour la fabrication de la couche antireflet comprend l'application d'un fluide de revêtement comprenant des fines particules revêtues d'un polymère organique, d'une résine de liant et d'un solvant organique miscible dans l'eau présentant un point d'ébullition de 100°C ou plus sur un côté d'une base de couche, et le séchage ou la cuisson du revêtement pour former une couche à faible indice de réfraction comportant des vides. Il est également fourni une couche antireflet qui comprend une base de couche et une couche à faible indice de réfraction formée sur un côté de celle-ci, la couche à faible indice de réfraction contenant des fines particules revêtues d'un polymère organique, comportant des vides et présentant un indice de réfraction de 1,10 à 1,29.
(JA)同一のコーティング液を用いながら低屈折率層の屈折率が調整でき、しかもより低屈折率の層を形成しうる反射防止フィルムの製造方法が提供される。フィルム基材の片面に、有機ポリマーで被覆された微粒子、バインダー樹脂および沸点100℃以上であり且つ水と混和できる有機溶剤からなる塗液を塗布し、それを乾燥・硬化させて空隙を有する低屈折率層を形成する反射防止フィルムの製造方法、ならびにフィルム基材およびその片面に形成された低屈折率層とからなる、該低屈折率層が、有機ポリマーで被覆された微粒子および空隙を有し、かつ屈折率が1.10~1.29の範囲にある反射防止フィルムが同様に提供される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)