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1. (WO2005083756) 事前計測処理方法、露光システム及び基板処理装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2005/083756    国際出願番号:    PCT/JP2005/003156
国際公開日: 09.09.2005 国際出願日: 25.02.2005
IPC:
G03F 9/00 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ISHII, Yuuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SUZUKI, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OKITA, Shinichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ISHII, Yuuki; (JP).
SUZUKI, Hiroyuki; (JP).
OKITA, Shinichi; (JP)
代理人: MAEDA, Hitoshi; MAEDA & NISHIDE 2F, Tokyodo Jinboucho 3rd Bldg. 1-17, Kandajinboucho 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1010051 (JP)
優先権情報:
2004-056167 01.03.2004 JP
発明の名称: (EN) PRE-MEASUREMENT PROCESSING METHOD, EXPOSURE SYSTEM AND SUBSTRATE PROCESSING EQUIPMENT
(FR) MÉTHODE DE TRAITEMENT DE PRÉ-MESURE, SYSTÈME D'EXPOSITION ET ÉQUIPEMENT DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 事前計測処理方法、露光システム及び基板処理装置
要約: front page image
(EN)[PROBLEMS] To highly efficiently manufacture high-performance and high-quality micro devices at a high throughput. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] Prior to carrying in a wafer W to exposure equipment (200) which is to expose the wafer W, a mark formed on the wafer W is measured by inline measuring equipment (400), and the exposure equipment (200) is informed of the measurement results and/or results obtained by calculating the measurement results. The exposure equipment (200) optimizes measuring conditions based on the informed results, and then perform processes such as alignment.
(FR)[PROBLÈMES] Fabriquer d'une manière hautement efficace et avec un rendement élevé des microdispositifs à performances et de qualité supérieures. [MOYEN POUR RÉSOUDRE LES PROBLÈMES] Avant d'acheminer une plaquette W à un équipement d'exposition (200) devant exposer la plaquette W, une marque formée sur la plaquette W est mesurée par un équipement de mesure en ligne (400) et l'équipement d'exposition (200) est informé des résultats de mesure et/ou des résultats obtenus par le calcul des résultats de mesure. L'équipement d'exposition (200) optimise les conditions de mesure sur la base des résultats communiqués puis effectue les procédures telles que l'alignement.
(JA)【課題】高性能、高品質なマイクロデバイス等を高いスループットで高効率的に製造する。 【解決手段】ウエハWを露光する露光装置200に該ウエハWを搬入する前に、インライン計測器400により、該ウエハW上に形成されたマークを計測し、計測結果及び/又は該計測結果を演算処理した結果を露光装置200に通知する。露光装置200では、通知された結果に基づいて計測条件を最適化した上でアライメント等の処理を実施する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)