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1. (WO2005083755) フォトレジスト膜除去装置および方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2005/083755    国際出願番号:    PCT/JP2004/011665
国際公開日: 09.09.2005 国際出願日: 06.08.2004
IPC:
B08B 3/08 (2006.01), G03F 7/42 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
出願人: SASAKURA ENGINEERING CO., LTD. [JP/JP]; 7-5, Mitejima 6-chome Nishiyodogawa-ku, Osaka-shi Osaka 5550012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MIZUTANI, Junji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MORIYAMA, Youichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MIZUTANI, Junji; (JP).
MORIYAMA, Youichi; (JP)
代理人: SAEGUSA, Eiji; Kitahama TNK Building 1-7-1, Doshomachi Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 5410045 (JP)
優先権情報:
2004-056738 01.03.2004 JP
発明の名称: (EN) PHOTORESIST FILM REMOVING DEVICE AND METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ D’ENLÈVEMENT DE FILM PHOTORÉSIST
(JA) フォトレジスト膜除去装置および方法
要約: front page image
(EN)A photoresist film removing device (1) for removing a photoresist film formed on a substrate (S) with ozone water comprising a table (10) having a smooth upper surface (10a) provided with a first recess (12) for containing the substrate (S), a cover member (20) having a smooth surface (20a) facing to the upper surface (10a) of the table and provided with a second recess (22) such that the circumferential edge part of the second recess (22) abuts against the upper surface (10a) of the table to enclose the second recess (22), and a supply section (24) and a discharge section (26) located on the opposite sides of the first recess (12) and communicating with the second recess (22). The photoresist film removing device can remove the photoresist film quickly and infallibly using ozone water.
(FR)Il est prévu un dispositif d’enlèvement de film photorésist (1) permettant d’enlever un film photorésist formé sur un substrat (S) avec de l’eau ozonée comprenant une table (10) ayant une surface lisse supérieure (10a) pourvue d’un premier retrait (12) pour contenir le substrat (S), un élément de couverture (20) ayant une surface lisse (20a) faisant face à la surface supérieure (10a) de la table et pourvue d’un second retrait (22) de telle sorte que la partie de bordure circonférentielle du second retrait (22) bute contre la surface supérieure (10a) de la table pour entourer le second retrait (22), et une section d’alimentation (24) et une section de décharge (26) située sur les côtés opposés du premier retrait (12) et communiquant avec le second retrait (22). Le dispositif d’enlèvement de film photorésist peut enlever le film photorésist rapidement et sans défaillance en utilisant de l’eau ozonée.
(JA)基板(S)上に形成されたフォトレジスト膜をオゾン水により剥離するフォトレジスト膜除去装置(1)であって、上面(10a)が平滑に形成され、基板(S)が収容される第1の凹部(12)を上面(10a)に有するテーブル(10)と、テーブル上面(10a)との対向面(20a)が平滑に形成され、対向面(20a)に第2の凹部(22)を有しており、第2の凹部(22)の周縁部がテーブル上面(10a)に当接して第2の凹部(22)を密閉するように配置されたカバー部材(20)と、第2の凹部(22)と連通し、第1の凹部(12)を挟んで両側にそれぞれ配置された供給部(24)および排出部(26)とを備える。このフォトレジスト膜除去装置によれば、オゾン水を用いたフォトレジスト膜の剥離を迅速かつ確実に行うことができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)