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1. (WO2005083149) 微粒子付着基板
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2005/083149    国際出願番号:    PCT/JP2005/002316
国際公開日: 09.09.2005 国際出願日: 16.02.2005
IPC:
C23C 14/34 (2006.01)
出願人: Konica Minolta Holdings, Inc. [JP/JP]; 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KONDO, Yoshikazu [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KONDO, Yoshikazu; (JP)
優先権情報:
2004-051537 26.02.2004 JP
発明の名称: (EN) PARTICLE DEPOSITED SUBSTRATE
(FR) SUBSTRAT REVÊTU DE PARTICULES
(JA) 微粒子付着基板
要約: front page image
(EN)A particle deposited substrate can be manufactured by using an atmospheric plasma sputtering method, without using expensive vacuum equipment. Particles can be grown at a low temperature of 200°C or below, and the various nano-order particles of a metal or its oxide with controlled particle diameter, particle density, patterning and integration degree directly adhere by themselves even in a primary particle status with excellent adhesiveness without using an adhesive medium such as binder, filler, etc. in between.
(FR)Un substrat revêtu de particules peut être fabriqué en utilisant un procédé de pulvérisation de plasma atmosphérique, sans utiliser un équipement sous vide onéreux. Des particules peuvent se développer à une basse température de 200°C ou inférieure et les différentes particules à l'échelle nanométrique d'un métal ou son oxyde avec un diamètre de particule contrôlé, une densité de particule, un degré d'intégration et de structure adhérent directement par eux-mêmes même dans un statut primaire de particule avec une adhésion excellente sans utiliser un milieu adhésif tel qu'un, lien, une charge etc. entre à l'intérieur.
(JA)高価な真空設備を用いることなく、大気圧プラズマスパッタ法を用いることにより製造することが可能で、また200°C以下の低温においても粒子を成長させることができ、粒子径、粒子密度、パターニング、集積度がコントロールされたナノオーダーの金属またはその酸化物をはじめとする各種の微粒子自体が、バインダまたはフィラー等の接着媒体を介さずに、密着性良く、一次粒子の形態においても直接付着していることを特徴とする微粒子付着基板。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)