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1. (WO2005078784) シリコン酸化膜の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2005/078784    国際出願番号:    PCT/JP2005/002425
国際公開日: 25.08.2005 国際出願日: 17.02.2005
IPC:
H01L 21/316 (2006.01)
出願人: TOAGOSEI CO., LTD. [JP/JP]; 14-1, Nishishimbashi 1-chome Minato-ku, Tokyo 1058419 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TAKEUCHI, Hiroaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HATTORI, Satoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SUZUKI, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HARADA, Katsuyoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TAKEUCHI, Hiroaki; (JP).
HATTORI, Satoshi; (JP).
SUZUKI, Hiroshi; (JP).
HARADA, Katsuyoshi; (JP)
優先権情報:
2004-040613 17.02.2004 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING SILICON OXIDE FILM
(FR) MÉTHODE DE PRODUCTION DE FILM D'OXYDE DE SILICONE
(JA) シリコン酸化膜の製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method for producing a silicon oxide film having better quality than a TEOS at low temperatures. Also disclosed is a method for manufacturing a semiconductor device wherein an insulating film composed of a silicon oxide is formed. Specifically, an insulating film composed of a silicon oxide is deposited by a CVD method wherein a silane compound represented by the general formula below is reacted. HnSi2(OR)6-n (In the above formula, R represents an alkyl group having 1-5 carbon atoms and n represents an integer of 0-2.)
(FR): Il est présenté une méthode de production de film oxydé de silicone de meilleure qualité qu'un TEOS à basse température. Egalement présentée une méthode de fabrication d'un dispositif semi-conducteur dans lequel un film isolant composé d'oxyde de silicone est formé. Spécifiquement, un film isolant composé d'un oxyde de silicone est déposé par une méthode D.C.P.V. (Dépôt chimique en phase vapeur) dans laquelle un composé de silane, représenté par la formule générale ci-dessous, réagit. HnSi2(OR)6-n (Dans cette formule, R représente un groupe alkyle ayant 1 à 5 atomes de carbone et n représente un nombre entier de 0 à 2.)
(JA)not available
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)