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1. (WO2005078775) 計測方法、転写特性計測方法、露光装置の調整方法及びデバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2005/078775    国際出願番号:    PCT/JP2005/000205
国際公開日: 25.08.2005 国際出願日: 12.01.2005
IPC:
G01B 15/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YOSHIKAWA, Iori [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YOSHIKAWA, Iori; (JP)
代理人: TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO. Karakida Center Bldg. 1-53-9, Karakida Tama-shi, Tokyo 206-0035 (JP)
優先権情報:
2004-036458 13.02.2004 JP
発明の名称: (EN) MEASUREMENT METHOD, TRANSFER CHARACTERISTIC MEASUREMENT METHOD, EXPOSURE DEVICE ADJUSTMENT METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE MESURAGE, PROCÉDÉ DE MESURAGE DE LA CARACTÉRISTIQUE DE TRANSFERT, PROCÉDÉ DE RÈGLAGE DU DISPOSITIF D’EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF
(JA) 計測方法、転写特性計測方法、露光装置の調整方法及びデバイス製造方法
要約: front page image
(EN)A reticle is mounted on an exposure device, exposure is performed, and a measurement mark on the reticle is transferred onto a wafer so as to form a first transfer image of the measurement mark (step 212). Subsequently, the wafer is rotated (step 218) and then the measurement mark is transferred onto the wafer which has been rotated, thereby forming a second transfer image of the measurement mark (step 224). The first and the second transfer image of the measurement mark formed on the wafer according to the wafer directions with respect to the reticle during transfer of the measurement mark are acquired by SEM. The acquired images are subjected to an image process having a common measurement direction without rotating the images and the sizes of the first and the second transfer image of the measurement mark in the measurement direction are measured. Thus, it is possible to prevent lowering of the size measurement accuracy of the mark attributed to the combination of the image acquisition and the image process.
(FR): Un réticule est monté sur un dispositif d’exposition, l’exposition est réalisée, et une marque de mesurage sur le réticule est transférée sur une tranche de manière à former une première image transférée de la marque de mesurage (étape 212). Par la suite, la tranche est pivotée (étape 218) et puis la marque de mesurage est transférée sur la tranche ayant été pivotée, formant ainsi une deuxième image transférée de la marque de mesurage (étape 224). La première et la deuxième images transférées de la marque de mesurage formée sur la tranche selon les directions de la tranche par rapport au réticule pendant le transfert de la marque de mesurage sont acquises par MEB. Les images acquises sont soumises à un procédé d’image ayant une direction de mesurage commune sans pivotement des images et les tailles de la première et de la deuxième images transférées de la marque de mesurage sont mesurées dans la direction de mesurage. Ainsi, il est possible d’éviter de diminuer la précision du mesurage de la taille de la marque attribuée à la combinaison de l’acquisition d’image et du procédé d’image.
(JA) レチクルを露光装置に搭載して露光を行い、レチクル上の計測用マークをウエハ上に転写して計測用マークの第1の転写像を形成する(ステップ212)。次いで、ウエハを回転後(ステップ218)、回転後のウエハに対して計測用マークを転写して計測用マークの第2の転写像を形成する(ステップ224)。このようにして、計測用マークの転写時のレチクルに対するウエハの向きに応じて、ウエハ上にそれぞれ形成された計測用マークの第1、第2の転写像の画像が、SEMによりそれぞれ取り込まれる。取り込まれたそれぞれの画像に対して、いずれの画像にも回転を加えることなく、計測方向を共通にする画像処理が施され、計測用マークの第1、第2の転写像それぞれの計測方向のサイズが計測される。これにより、画像の取り込みと画像処理との組み合わせに起因するマークのサイズ計測精度の低下が防止される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)