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1. (WO2005076324) 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2005/076324    国際出願番号:    PCT/JP2005/001990
国際公開日: 18.08.2005 国際出願日: 03.02.2005
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KOBAYASHI, Naoyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OWA, Soichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HIRUKAWA, Shigeru [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OMURA, Yasuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KOBAYASHI, Naoyuki; (JP).
OWA, Soichi; (JP).
HIRUKAWA, Shigeru; (JP).
OMURA, Yasuhiro; (JP)
代理人: KAWAKITA, Kijuro; YKB Mike Garden 5-4, Shinjuku 1-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
優先権情報:
2004-028092 04.02.2004 JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE PRODUCING METHOD
(FR) APPAREIL D’EXPOSITION, PROCEDE D’EXPOSITION ET PROCEDE DE FABRICATION D’UN DISPOSITIF
(JA) 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
要約: front page image
(EN)An exposure apparatus (EX) exposes a substrate (P) by irradiating exposure light (EL) on the substrate (P) through liquid (LQ). The exposure apparatus (EX) has a substrate holder (PH) for holding the substrate (P), a substrate stage (PST) capable of moving the substrate (P) held by the substrate holder (PH), and a temperature regulation system (60) for regulating the temperature of the substrate holder (PH). The temperature of the substrate (P) is controlled so as not to have a temperature difference from the liquid (LQ), thereby preventing a reduction in exposure accuracy resulting from variation in temperature of the liquid (LQ).
(FR)Un appareil d’exposition (EX) expose un substrat (P) en illuminant le substrat (P) de lumière d’exposition (EL) à travers un liquide (LQ). L’appareil d’exposition (EX) comporte un porte-substrat (PH) pour maintenir le substrat (P), une platine à substrat (PST) capable de déplacer le substrat (P) maintenu par le porte-substrat (PH), et un système de régulation de la température (60) pour réguler la température du porte-substrat (PH). La température du substrat (P) est réglée de façon à ce que le liquide (LQ) ne présente pas de différence de température, pour éviter ainsi une réduction de la précision d’exposition provoquée par une variation de la température du liquide (LQ).
(JA) 露光装置EXは、液体LQを介して基板P上に露光光ELを照射して基板Pを露光する。露光装置EXは、基板Pを保持する基板ホルダPHを有し、この基板ホルダPHに基板Pを保持して移動可能な基板ステージPSTと、基板ホルダPHの温度調整を行う温調システム60とを備えている。基板Pの温度を、液体LQとの温度差が生じないように制御して、液体LQの温度変化による露光精度の低下を防止する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)