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1. WO2005074334 - プラズマ生成装置

公開番号 WO/2005/074334
公開日 11.08.2005
国際出願番号 PCT/JP2005/001010
国際出願日 26.01.2005
IPC
C23C 14/24 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
24真空蒸着
C23C 14/32 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
24真空蒸着
32爆発によるもの;蒸発およびその後の蒸気のイオン化によるもの
H05H 1/50 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
Hプラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1プラズマの生成;プラズマの取扱い
24プラズマの発生
48アークを用いるもの
50そして磁界を用いるもの,例.アークを集束または回転させるためのもの
CPC
H05H 1/50
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
48using an arc
50and using applied magnetic fields, e.g. for focusing or rotating the arc
出願人
  • 株式会社フェローテック Ferrotec Corporation [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 滝川 浩史 TAKIKAWA, Hirofumi [JP]/[JP]
  • 椎名 祐一 SHIINA, Yuichi [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 滝川 浩史 TAKIKAWA, Hirofumi
  • 椎名 祐一 SHIINA, Yuichi
代理人
  • 三木 久巳 MIKI, Hisami
優先権情報
2004-01934028.01.2004JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PLASMA PRODUCING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE PRODUCTION DE PLASMA
(JA) プラズマ生成装置
要約
(EN)
A plasma traveling from an arc discharge section is thoroughly separated from droplets. The plasma is guided into a plasma traveling passage, and the droplets are completely collected in a droplet collecting section, thereby preventing the droplets from entering the plasma traveling passage. A plasma is produced by vacuum arc discharge in an arc discharge section (1), and droplets produced as a by-product at the cathode when the plasma is produced are collected in a droplet collecting section (3). A main traveling passage (2) where the mixture of the plasma and droplets travel is provided. The main traveling passage (2) is branched into a droplet traveling passage (4) where droplets travel and a first plasma traveling section (5) where the plasma travels. In a portion of the main traveling passage (2), a restricting plate (7) for restricting the travel of the plasma and droplets is provided. An oblique wall (8) for reflecting the droplets passing the restricting plate (7) toward the droplet collecting section (3) is provided in a portion of the droplet traveling passage (4) beyond the first plasma traveling section (5).
(FR)
Un plasma circulant à partir d’une section de décharge d’arc est soigneusement séparé des gouttelettes. Le plasma est guidé dans un passage de circulation du plasma, et les gouttelettes sont complètement recueillies dans une section de récupération des gouttelettes, empêchant ainsi les gouttelettes d’entrer dans le passage de circulation du plasma. Un plasma est produit par décharge d’arc sous vide dans une section de décharge d’arc (1), et les gouttelettes produites sous forme de produit dérivé au niveau de la cathode lorsque le plasma est produit sont recueillies dans une section de récupération des gouttelettes (3). Un passage de circulation principal (2) dans lequel le mélange de plasma et de gouttelettes circule est fourni. Le passage de circulation principal (2) est branché dans un passage de circulation des gouttelettes (4) dans lequel les gouttelettes circulent et une première section de circulation du plasma (5) dans lequel le plasma circule. Dans une partie du passage de circulation principal (2), une plaque de restriction (7) permettant de restreindre la circulation du plasma et des gouttelettes est fourni. Une paroi oblique (8) permettant de renvoyer les gouttelettes passant par la plaque de restriction (7) vers la section de récupération des gouttelettes (3) est fournie dans une partie du passage de circulation des gouttelettes (4) au-delà de la première section de circulation du plasma (5).
(JA)
 アーク放電部から進行するプラズマとドロップレットを確実に分離でき、プラズマはプラズマ進行路に導きドロップレットはドロップレット捕集部に確実に捕集でき、プラズマ進行路へのドロップレットの進入を防止する。  アーク放電部1の真空アーク放電でプラズマを発生させ、プラズマ発生時に陰極から副生するドロップレットをドロップレット捕集部3に捕集するもので、プラズマとドロップレットが混合状態で進行する主進行路2を設け、主進行路2をドロップレットが進行するドロップレット進行路4とプラズマが進行する第1プラズマ進行路5とに分岐し、主進行路2の途中部にプラズマとドロップレットの進行を制限するための制限板7を設け、制限板7を通過したドロップレットをドロップレット捕集部3に向けて反射させる斜行壁8をドロップレット進行路4の途中部に設け且つ第1プラズマ進行路5を越えた位置に形成する。
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