(EN) A resist composition for a photomask, which comprises (A) a resin component having a constituting unit derived from an (&agr;-lower alkyl)acrylic acid as a primary component, (B) an acid generator generating an acid by the exposure to a light, and (D) a polymer compound containing a hydroxystyrene constituting unit (d11) and a constituting unit (d12) having a dissolution inhibiting group being dissociated by an acid, or which comprises (A) the resin component, (B1) an onium salt type acid generator having a fluorine-substituted alkylsulfonate ion, and (B2) an onium salt type acid generator having an alkylsulfonate ion being not substituted with fluorine. The above resist composition allows the manufacture of a photomask of a pattern shape having a side wall exhibiting high perpendicularity and a cross section being nearly rectangular.
(FR) Composition résistante pour un masque photographique, qui comprend (A) un composant résineux ayant un motif constitutif dérivé d’un acide d’alkyle &agr;-inférieur acrylique en tant que composant primaire, (B) un générateur d’acide générant un acide par exposition à une lumière, et (D) un composé polymère contenant un motif constitutif hydroxystyrène (d11) et un motif constitutif (d12) ayant un groupe d’inhibition de la dissolution étant dissocié par un acide, ou qui comprend (A) le composant résineux, (B1) un générateur d’acide de type sel d’onium ayant un ion alkylsulfonate substitué par du fluor, et (B2) un générateur d’acide de type sel d’onium ayant un ion alkylsulfonate n’étant pas substitué par du fluor. La composition résistante ci-dessus permet de fabriquer un masque photographique d’une forme ayant une paroi latérale présentant une haute perpendicularité et une section transversale étant pratiquement rectangulaire.
(JA) ホトマスクの製造にあたって側壁の垂直性の高い、断面矩形に近いパターン形状が得られるホトマスク用ホトレジスト組成物が提供される。このレジスト組成物は、
（Ａ）（α−低級アルキル）アクリル酸から誘導される構成単位を主成分とする樹脂成分と、（Ｂ）露光により酸を発生する酸発生剤と、（Ｄ）ヒドロキシスチレン構成単位（ｄ１１）と、酸解離性溶解抑制基を有する構成単位（ｄ１２）とを含む高分子化合物とを含み、又は（Ａ）樹脂成分と、（Ｂ１）フッ素置換アルキルスルホン酸イオンを有するオニウム塩系酸発生剤と、（Ｂ２）フッ素で置換されていないアルキルスルホン酸イオンを有するオニウム塩系酸発生剤とを含む。