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1. (WO2005070691) レーザー彫刻可能な印刷基材用感光性樹脂組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2005/070691    国際出願番号:    PCT/JP2005/000953
国際公開日: 04.08.2005 国際出願日: 26.01.2005
予備審査請求日:    15.08.2005    
IPC:
B41C 1/05 (2006.01), B41N 1/12 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/075 (2006.01)
出願人: ASAHI KASEI CHEMICALS CORPORATION [JP/JP]; 1-2, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1008440 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YAMADA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TOMEBA, Kei [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YAMADA, Hiroshi; (JP).
TOMEBA, Kei; (JP)
代理人: ASAMURA, Kiyoshi; Room 331, New Ohtemachi Bldg. 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1000004 (JP)
優先権情報:
2004-018470 27.01.2004 JP
2004-237600 17.08.2004 JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR PRINTING SUBSTRATE CAPABLE OF LASER SCULPTURE
(FR) COMPOSITION DE RESINE PHOTOSENSIBLE POUR SUBSTRAT D'IMPRESSION PERMETTANT LA SCULPTURE LASER
(JA) レーザー彫刻可能な印刷基材用感光性樹脂組成物
要約: front page image
(EN)A photosensitive resin composition for printing substrate capable of laser sculpture, comprising resin (a) having a polymerizable unsaturated group whose number average molecular weight is in the range of 1000 to 20×104, organic compound (b) having a polymerizable unsaturated group whose number average molecular weight is <1000 and organosilicon compound (c) having at least one Si-O bond in each molecule and having no polymerizable unsaturated group in molecules, wherein the content of organosilicon compound (c) is in the range of 0.1 to 10 wt.% based on the whole of photosensitive resin composition.
(FR)La présente invention concerne une composition de résine photosensible pour substrat d'impression permettant la sculpture laser, qui comprend une résine (a) possédant un groupe insaturé polymérisable dont le nombre de la masse moléculaire moyenne est compris entre 2000 et 20 fois dix puissance 4, un composé organique (b) possède un groupe insaturé polymérisable dont le nombre de la masse moléculaire moyenne est inférieure à 1000 et un composés organosilicium (c) possédant au moins une liaison Si-O dans chaque molécule et ne possédant pas de groupe insaturé polymérisable dans des molécules, le contenu de ce composé organosilicium (c) étant compris entre 0,1 % et 10 % en masse de la composition de résine photosensible totale.
(JA) 数平均分子量が1000以上20万以下の重合性不飽和基を有する樹脂(a)、数平均分子量が1000未満の重合性不飽和基を有する有機化合物(b)、及び分子内に少なくとも1つのSi−O結合を有し、かつ、分子内に重合性不飽和基を有しない有機ケイ素化合物(c)を含有する、レーザー彫刻可能な印刷基材用感光性樹脂組成物であって、該有機ケイ素化合物(c)の含有率が、該感光性樹脂組成物全体に対し0.1重量%以上10重量%以下である上記感光性樹脂組成物。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)