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1. WO2005070665 - ガスバリア性フィルム及びガスバリア性積層体

公開番号 WO/2005/070665
公開日 04.08.2005
国際出願番号 PCT/JP2005/001017
国際出願日 26.01.2005
IPC
B32B 9/00 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
9本質的にグループB32B11/00~B32B29/00に包含されない特殊な物質からなる積層体
C23C 14/10 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06被覆材料に特徴のあるもの
10ガラスまたはシリカ
CPC
B32B 15/08
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
15Layered products comprising ; a layer of; metal
04comprising metal as the main or only constituent of a layer, ; which is; next to another layer of ; the same or of; a ; different material
08of synthetic resin
B32B 2255/10
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
2255Coating on the layer surface
10on synthetic resin layer or on natural or synthetic rubber layer
B32B 2255/20
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
2255Coating on the layer surface
20Inorganic coating
B32B 2255/26
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
2255Coating on the layer surface
26Polymeric coating
B32B 2255/28
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
2255Coating on the layer surface
28Multiple coating on one surface
B32B 2307/31
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
2307Properties of the layers or laminate
30having particular thermal properties
31Heat sealable
出願人
  • 三菱樹脂株式会社 Mitsubishi Plastics, Inc. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 独立行政法人産業技術総合研究所 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology [JP]/[JP] (AE, AG, AL, AM, AU, AZ, BA, BB, BF, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CI, CM, CN, CO, CR, CU, DM, DZ, EC, EG, GA, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GW, HR, ID, IL, IN, KE, KG, KP, KZ, LC, LK, LR, LS, LV, MA, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NA, NE, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, RU, SC, SD, SG, SL, SM, SN, SY, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW)
  • 蜂須賀 亨 HACHISUKA, Tooru [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 吉田 重信 YOSHIDA, Shigenobu [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 大川原 千春 OKAWARA, Chiharu [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 小林 慶規 KOBAYASHI, Yoshinori [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 伊藤 賢志 ITO, Kenji [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 富樫 寿 TOGASHI, Hisashi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 平田 浩一 HIRATA, Kouichi [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 蜂須賀 亨 HACHISUKA, Tooru
  • 吉田 重信 YOSHIDA, Shigenobu
  • 大川原 千春 OKAWARA, Chiharu
  • 小林 慶規 KOBAYASHI, Yoshinori
  • 伊藤 賢志 ITO, Kenji
  • 富樫 寿 TOGASHI, Hisashi
  • 平田 浩一 HIRATA, Kouichi
代理人
  • 志賀 正武 SHIGA, Masatake
優先権情報
2004-01851827.01.2004JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) GAS BARRIER FILM AND GAS BARRIER LAMINATE
(FR) FILM BARRIERE CONTRE LES GAZ ET STRATIFIE BARRIERE CONTRE LES GAZ
(JA) ガスバリア性フィルム及びガスバリア性積層体
要約
(EN)
A gas barrier film comprising a base material and, superimposed on one or both major surfaces thereof, a silicon oxide film, wherein the radical density of Pb center of the silicon oxide film, observed in measurement according to the electron spin resonance method (ESR method) is in the range of 1×1016 to 1×1019 spins/cm3. Further, there is provided a gas barrier film comprising a base material and, superimposed on one or both major surfaces thereof, an inorganic thin film containing silicon oxide and another metal component, wherein the radical density of Pb center of the silicon oxide of the inorganic thin film, observed in measurement according to the ESR method is in the range of 3×1014 to 3×1017 spins/mol. Still further, there is provided a laminate comprising the above gas barrier film and, superimposed thereon, at least one layer of paper and/or plastic film.
(FR)
La présente invention se rapporte à un film barrière contre les gaz comportant une matière de base et, superposé sur l'une de ses surfaces principales ou sur ses deux surfaces principales, un film d'oxyde de silicium, dans lequel la densité radicalaire du centre en Pb de ce film d'oxyde de silicium, observée dans une mesure conforme au procédé de résonance de spin électronique (procédé ESR), se situe dans l'intervalle 1x1016 à 1x1019 spins/cm3. En outre, l'invention se rapporte à un film barrière contre les gaz comportant une matière de base et, superposé sur une de ses surfaces principales ou sur ses deux surfaces principales, un film mince inorganique contenant un oxyde de silicium et un autre composant métallique, dans lequel la densité radicalaire du centre en Pb de l'oxyde de silicium du film mince inorganique, observée dans une mesure conforme au procédé ESR se trouve dans l'intervalle 31x1014 à 3x1017 spins/mole. L'invention se rapporte par ailleurs à un stratifié comportant le film barrière contre les gaz décrits ci-dessus et, superposé à ce film, au moins une couche d'un film papier et/ou plastique.
(JA)
    本発明のガスバリア性フィルムは、基材の両面または片面に形成された酸化珪素膜を有するガスバリア性フィルムであって、電子スピン共鳴法(ESR法)測定によって観測される前記酸化珪素膜のPbセンターのラジカル密度が1×1016~1×1019 spins/cm3であるガスバリア性フィルム、及び、基材の両面または片面に形成された酸化珪素及び他の金属成分を含む無機薄膜を有するガスバリア性フィルムであって、ESR法測定によって観測される前記無機薄膜中の酸化珪素のPbセンターのラジカル濃度が3×1014~3×1017spins/molであるガスバリア性フィルム、及び前記ガスバリア性フィルムに、紙及び/又はプラスチックフィルムを少なくとも1層以上積層した積層体である。  
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