(EN) A gas barrier film comprising a base material and, superimposed on one or both major surfaces thereof, a silicon oxide film, wherein the radical density of Pb center of the silicon oxide film, observed in measurement according to the electron spin resonance method (ESR method) is in the range of 1×1016 to 1×1019 spins/cm3. Further, there is provided a gas barrier film comprising a base material and, superimposed on one or both major surfaces thereof, an inorganic thin film containing silicon oxide and another metal component, wherein the radical density of Pb center of the silicon oxide of the inorganic thin film, observed in measurement according to the ESR method is in the range of 3×1014 to 3×1017 spins/mol. Still further, there is provided a laminate comprising the above gas barrier film and, superimposed thereon, at least one layer of paper and/or plastic film.
(FR) La présente invention se rapporte à un film barrière contre les gaz comportant une matière de base et, superposé sur l'une de ses surfaces principales ou sur ses deux surfaces principales, un film d'oxyde de silicium, dans lequel la densité radicalaire du centre en Pb de ce film d'oxyde de silicium, observée dans une mesure conforme au procédé de résonance de spin électronique (procédé ESR), se situe dans l'intervalle 1x1016 à 1x1019 spins/cm3. En outre, l'invention se rapporte à un film barrière contre les gaz comportant une matière de base et, superposé sur une de ses surfaces principales ou sur ses deux surfaces principales, un film mince inorganique contenant un oxyde de silicium et un autre composant métallique, dans lequel la densité radicalaire du centre en Pb de l'oxyde de silicium du film mince inorganique, observée dans une mesure conforme au procédé ESR se trouve dans l'intervalle 31x1014 à 3x1017 spins/mole. L'invention se rapporte par ailleurs à un stratifié comportant le film barrière contre les gaz décrits ci-dessus et, superposé à ce film, au moins une couche d'un film papier et/ou plastique.
(JA)
本発明のガスバリア性フィルムは、基材の両面または片面に形成された酸化珪素膜を有するガスバリア性フィルムであって、電子スピン共鳴法（ＥＳＲ法）測定によって観測される前記酸化珪素膜のＰｂセンターのラジカル密度が１×１０１６～１×１０１９ spins/cm3であるガスバリア性フィルム、及び、基材の両面または片面に形成された酸化珪素及び他の金属成分を含む無機薄膜を有するガスバリア性フィルムであって、ＥＳＲ法測定によって観測される前記無機薄膜中の酸化珪素のＰｂセンターのラジカル濃度が３×１０１４～３×１０１７spins/molであるガスバリア性フィルム、及び前記ガスバリア性フィルムに、紙及び／又はプラスチックフィルムを少なくとも１層以上積層した積層体である。