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1. (WO2005048674) 電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2005/048674 国際出願番号: PCT/JP2004/016745
国際公開日: 26.05.2005 国際出願日: 11.11.2004
IPC:
B32B 15/08 (2006.01) ,B32B 27/30 (2006.01) ,G09F 9/00 (2006.01) ,H05K 9/00 (2006.01)
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
15
本質的に金属からなる積層体
04
層の主なまたは唯一の構成要素が金属からなり,特定物質の他の層に隣接したもの
08
合成樹脂の層に隣接したもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27
本質的に合成樹脂からなる積層体
30
ビニル樹脂からなるもの;アクリル樹脂からなるもの
G 物理学
09
教育;暗号方法;表示;広告;シール
F
表示;広告;サイン;ラベルまたはネームプレート;シール
9
情報が個別素子の選択または組合わせによって支持体上に形成される可変情報用の指示装置
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
9
電場または磁場に対する装置または部品の遮へい
出願人:
船木竜也 FUNAKI, Tatsuya [JP/JP]; JP (UsOnly)
小坪秀史 KOTSUBO, Hidefumi [JP/JP]; JP (UsOnly)
笹木清美 SASAKI, Kiyomi [JP/JP]; JP (UsOnly)
株式会社ブリヂストン BRIDGESTONE CORPORATION [JP/JP]; 〒1048340 東京都中央区京橋一丁目10番1号 Tokyo 10-1, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048340, JP (AllExceptUS)
発明者:
船木竜也 FUNAKI, Tatsuya; JP
小坪秀史 KOTSUBO, Hidefumi; JP
笹木清美 SASAKI, Kiyomi; JP
代理人:
重野剛 SHIGENO, Tsuyoshi; 〒1600022 東京都新宿区新宿二丁目5番10号日伸ビル9階 Tokyo Nissin bldg., 9F 5-10, Shinjuku 2-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
優先権情報:
2003-38534514.11.2003JP
2003-38534614.11.2003JP
2003-38534714.11.2003JP
発明の名称: (EN) ELECTROMAGNETIC-SHIELDING LIGHT-TRANSMITTING WINDOW MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) MATERIAU DE FENETRE ELECTROMAGNETIQUEMENT BLINDANT ET PHOTOTRANSMETTEUR, ET PROCEDE DE PRODUCTION
(JA) 電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法
要約:
(EN) A resin pattern (3) is formed by printing an ultraviolet-curing resin paste containing an electroless plating catalyst on the surface of a transparent base (1) and curing the thus-printed pattern (2) by irradiating it with ultraviolet light. At this time, an uncured layer (3A) is left in the surface of the resin pattern (3). Then, a plating layer (4) is formed on the resin pattern (3) by electroless plating, thereby forming a conductive pattern (5). During the electroless plating, the uncured layer (3A) is eroded in the plating bath and catalyst particles are exposed. The plating layer (4) is formed using the thus-exposed catalyst particles as the nuclei.
(FR) Un patron en résine (3) est formé par impression d'une pâte de résine durcissant aux UV contenant un catalyseur de plaquage non électrique sur la surface d'une base transparente (1) et par durcissage du patron ainsi imprimé (2) en le soumettant à la lumière UV. A ce moment, une couche non durcir (3A) est laissée dans la surface du patron de résine (3). Ensuite, une couche de plaquage (4) est formée sur le patron de résine (3) par plaquage non électrique, formant ainsi un patron conducteur (5). Pendant le plaquage non électrique, la couche non durcie (3A) est érodée dans le bain de plaquage et les particules du catalyseur deviennent apparentes. La couche de plaquage (4) est formée en utilisant comme noyaux les particules de catalyseur ainsi exposées.
(JA) not available
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指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)