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1. (WO2005046933) 表面洗浄改質方法及び表面洗浄改質装置

Pub. No.:    WO/2005/046933    International Application No.:    PCT/JP2004/017132
Publication Date: Fri May 27 01:59:59 CEST 2005 International Filing Date: Fri Nov 12 00:59:59 CET 2004
IPC: B24B 13/00
B24B 53/007
Applicants: SEIKO EPSON CORPORATION
セイコーエプソン株式会社
Inventors: HOSODA, Takashi
細田 隆志
Title: 表面洗浄改質方法及び表面洗浄改質装置
Abstract:
プラスチック光学部品1を回転させると共に、弾性研磨体231を回転させつつプラスチック光学部品1表面に押し当てながら研磨剤を含むスラリーLをプラスチック光学部品1表面と弾性研磨体231の間に供給しながらプラスチック光学部品1を洗浄するスクラブ洗浄工程に、弾性研磨体231を回転させつつ研磨剤を含むスラリーLを弾性研磨体231に供給しながら弾性研磨体231を押し当て部221に押し当てることによって変形させて弾性研磨体231自体を洗浄する自己洗浄工程を加える。このような方法によって、研磨剤を介してプラスチック光学部品を研磨し、洗浄する際に、プラスチック光学部品の表面に汚れを残さずに、なおかつ深いキズをつけないようにすることができる表面洗浄改質方法及び表面洗浄改質装置を提供する。