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1. (WO2005045364) 位置検出方法、露光方法、位置検出装置、露光装置及びデバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2005/045364    国際出願番号:    PCT/JP2004/016423
国際公開日: 19.05.2005 国際出願日: 05.11.2004
IPC:
G03F 9/00 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NAKAJIMA, Shinichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NAKAJIMA, Shinichi; (JP)
代理人: TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO. Karakida Center Bldg. 1-53-9, Karakida, Tama-shi Tokyo 206-0035 (JP)
優先権情報:
2003-378229 07.11.2003 JP
発明の名称: (EN) POSITION DETECTION METHOD, EXPOSURE METHOD, POSITION DETECTION DEVICE, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCEDE DE DETECTION DE POSITION, PROCEDE D'EXPOSITION DISPOSITIF DE DETECTION DE POSITION, DISPOSITIF D'EXPOSITION ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIFS
(JA) 位置検出方法、露光方法、位置検出装置、露光装置及びデバイス製造方法
要約: front page image
(EN)It is possible to detect position information on a plurality of partitioned areas arranged on a object according to a model. AIC(M’) of a model M’ having a small degree of freedom of parameters is compared to AIC(M) of a model M having a large degree of freedom of parameters and the smaller one is selected as a model of EGA (step 502). When the model M is selected and its residual is not smaller than a predetermined value, a model in which all the coefficients having a greater degree of freedom of parameters than the model M are parameters is selected. When the number of valid samples is smaller than the degree of freedom of parameters in this model, the number of valid samples is increased and the sample shot is additionally measured. The coefficient of the model currently selected is reflected in the knowledge available in advance when performing wafer alignment next time (step 524). According to the degree of freedom of parameters of the current model, the number of valid samples is increased or decreased (step 508 or step 518).
(FR)La présente invention concerne un procédé permettant de détecter des informations de position sur une multitude de zones divisées ménagées sur un objet selon un modèle. AIC(M') d'un modèle, M' présentant un degré de liberté de paramètres plus petit, est comparé avec AIC(M) d'un modèle M présentant un degré de liberté de paramètres plus grand, puis le plus petit des deux est sélectionné en tant que modèle de EGA (étape 502). Lorsque le modèle M est sélectionné et que son reste n'est pas inférieur à une valeur prédéterminée, un modèle dans lequel tous les coefficients qui présentent un degré de liberté de paramètres supérieur au modèle M sont des paramètres, est sélectionné. Lorsque le nombre d'échantillons valables est inférieur au degré de liberté de paramètres dans ce modèle, le nombre d'échantillons valables est augmenté et le tir échantillon est également mesuré. Le coefficient du modèle sélectionné est reflété dans la connaissance préalable lors de l'alignement ultérieur de la plaquette (étape 524). En fonction du degré de liberté de paramètres du modèle en cours, le nombre d'échantillons valables est augmenté ou réduit (étape 508 ou 518).
(JA)not available
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)