国際・国内特許データベース検索

1. (WO2005043248) デキストリンエステル化合物を含有する下層膜形成組成物

Pub. No.:    WO/2005/043248    International Application No.:    PCT/JP2004/016129
Publication Date: Fri May 13 01:59:59 CEST 2005 International Filing Date: Sat Oct 30 01:59:59 CEST 2004
IPC: G03F 7/11
H01L 21/027
Applicants: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
日産化学工業株式会社
TAKEI, Satoshi
竹井 敏
SAKAIDA, Yasushi
境田 康志
SHINJO, Tetsuya
新城 徹也
Inventors: TAKEI, Satoshi
竹井 敏
SAKAIDA, Yasushi
境田 康志
SHINJO, Tetsuya
新城 徹也
Title: デキストリンエステル化合物を含有する下層膜形成組成物
Abstract:
【課題】半導体装置製造のリソグラフィープロセスに使用されるリソグラフィー用下層膜形成組成物、及びフォトレジストに比べて大きなドライエッチング速度を有し、そして、フォトレジストとのインターミキシングを起こさないリソグラフィー用下層膜を提供すること。 【解決手段】ヒドロキシル基の少なくとも50%がエステル基となったデキストリンエステル化合物、架橋性化合物、及び有機溶剤を含むリソグラフィー用下層膜形成組成物。