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1. (WO2005041276) 露光装置、露光方法、デバイスの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2005/041276 国際出願番号: PCT/JP2004/015796
国際公開日: 06.05.2005 国際出願日: 25.10.2004
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 〒1008331 東京都千代田区丸の内3丁目2番3号 Tokyo 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1008331, JP (AllExceptUS)
今井 基勝 IMAI, Motokatsu [JP/JP]; JP (UsOnly)
牧野内 進 MAKINOUCHI, Susumu [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
今井 基勝 IMAI, Motokatsu; JP
牧野内 進 MAKINOUCHI, Susumu; JP
代理人:
志賀 正武 SHIGA, Masatake; 〒1048453 東京都中央区八重洲2丁目3番1号 Tokyo 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 1048453, JP
優先権情報:
2003-36691428.10.2003JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE PRODUCING METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION, PROCEDE D'EXPOSITION ET PROCEDE POUR PRODUIRE LE DISPOSITIF
(JA) 露光装置、露光方法、デバイスの製造方法
要約:
(EN) An exposure apparatus forming a liquid immersion region by supplying a liquid on portion on a substrate and forming a predetermined pattern on the substrate through the liquid. The apparatus is characterized in that a preliminary liquid immersion region that is capable of holding on the substrate a portion of the liquid is formed on the outer periphery of the liquid immersion region. The liquid placed between the lower face of a projection optical system and the surface of the substrate is prevented from being separated from the lower face of the projection optical system as the projection optical system and the substrate relatively move.
(FR) L'invention concerne un appareil d'exposition formant une région d'immersion liquide par alimentation d'un liquide en partie sur un substrat et formant un motif prédéterminé sur le substrat à travers le liquide. L'appareil est caractérisé en ce qu'une région d'immersion de liquide préliminaire capable de maintenir sur le substrat une partie du liquide est formée sur une périphérie extérieure de la région d'immersion liquide. Le liquide placé entre la face inférieure d'un système optique de projection et la surface du substrat est conçue pour ne pas être séparée de la face inférieure du système optique de projection, lorsque le système optique de projection et le substrat bougent sensiblement.
(JA)  基板上の一部に液体を供給して液浸領域を形成し、前記液体を介して前記基板上に所定のパターンを形成する露光装置において、前記液浸領域の外周に、前記基板上に液体の一部を保持可能な予備液浸領域が形成されることを特徴とする。投影光学系の下面と基板表面との間に配置される液体が、投影光学系と基板との相対移動に伴って投影光学系の下面から剥離することを防止することができる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
KR1020060128877EP1679738JP4605014