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1. WO2005036244 - 反射型液晶表示装置用モジュールとその製造方法、及び反射型液晶表示装置

公開番号 WO/2005/036244
公開日 21.04.2005
国際出願番号 PCT/JP2003/012943
国際出願日 09.10.2003
IPC
G02F 1/1335 2006.01
G物理学
02光学
F光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333構造配置
1335セルと光学部材,例.偏光子または反射鏡,との構造的組合せ
G02F 1/1343 2006.01
G物理学
02光学
F光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333構造配置
1343電極
CPC
G02F 1/133553
GPHYSICS
02OPTICS
FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
1Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating, or modulating; Non-linear optics
01for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
13based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
1333Constructional arrangements; ; Manufacturing methods
1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
133553Reflecting elements
G02F 1/13439
GPHYSICS
02OPTICS
FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
1Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating, or modulating; Non-linear optics
01for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
13based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
1333Constructional arrangements; ; Manufacturing methods
1343Electrodes
13439characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making
G02F 1/136277
GPHYSICS
02OPTICS
FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
1Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating, or modulating; Non-linear optics
01for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
13based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
1362Active matrix addressed cells
136277formed on a semiconductor substrate, e.g. silicon
出願人
  • FUJITSU LIMITED [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • SAKAI, Toyoaki [JP]/[JP] (UsOnly)
  • NAKAMURA, Naoya [JP]/[JP] (UsOnly)
  • KUWASHIMA, Atsushi [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • SAKAI, Toyoaki
  • NAKAMURA, Naoya
  • KUWASHIMA, Atsushi
代理人
  • OKAMOTO, Keizo
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) MODULE FOR REFLECTION LIQUID CRYSTAL DISPLAY AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND REFLECTION LIQUID CRYSTAL DISPLAY
(FR) MODULE DESTINE A UN AFFICHAGE A CRISTAUX LIQUIDES DE REFLEXION, PROCEDE DE FABRICATION DE CELUI-CI ET AFFICHAGE A CRISTAUX LIQUIDES DE REFLEXION
(JA) 反射型液晶表示装置用モジュールとその製造方法、及び反射型液晶表示装置
要約
(EN)
A method for manufacturing a module for reflection liquid crystal displays, characterized by comprising the steps of forming a third interlayer insulating film (first insulating film) (26) over a silicon (semiconductor) substrate (1), forming an insulating film (second insulating film) (29) for a spacer on the third interlayer insulating film (26), forming an insulating spacer (29a) having an opening (29b) for each pixel by patterning the insulating film (29), forming a conductive film (30) on the insulating spacer (29a) and on the third interlayer insulating film (26) in the opening (29b), and polishing the conductive film (30) to an extent that the insulating spacer (29a) becomes exposed, thereby making the conductive film (30) left in the opening (29b) a reflection electrode (30a).
(FR)
L'invention concerne un procédé de fabrication d'un module destiné à des affichages à cristaux liquides de réflexion et caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à former un troisième film isolant intercouche (premier film isolant) (26) sur un substrat (semi-conducteur) en silicium (1), à former un film isolant (second film isolant) (29) destiné à un espaceur sur le troisième film isolant intercouche (26), à former un espaceur isolant (29a) comprenant une ouverture (29b) pour chaque pixel, par le biais d'une structuration du film isolant (29), à former un film conducteur (30) sur l'espaceur isolant (29a) et sur le troisième film isolant intercouche (26) dans l'ouverture (29b) et à polir le film conducteur (30) jusqu'à ce que l'espaceur isolant (29a) soit exposé, faisant ainsi du film conducteur (30) restant dans l'ouverture (29b) une électrode de réflexion (30a).
(JA)
シリコン(半導体)基板1の上方に第3層間絶縁膜(第1絶縁膜)26を形成する工程と、第3層間絶縁膜26の上にスペーサ用絶縁膜(第2絶縁膜)29を形成する工程と、スペーサ用絶縁膜29をパターニングすることにより、画素毎に開口29bを有する絶縁性スペーサ29aを形成する工程と、絶縁性スペーサ29a上と開口29b内の第3層間絶縁膜26上とに導電膜30を形成する工程と、絶縁性スペーサ29aが露出する程度に導電膜30を研磨し、開口29b内に残った導電膜30を反射電極30aとする工程と、を有することを特徴とする反射型液晶表示装置用モジュールの製造方法。
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