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1. (WO2005031463) ネガ型青紫色レーザー感光性組成物、画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2005/031463    国際出願番号:    PCT/JP2004/014299
国際公開日: 07.04.2005 国際出願日: 22.09.2004
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/031 (2006.01)
出願人: MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION [JP/JP]; 33-8, Shiba 5-chome Minato-ku, Tokyo 1080014 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MIZUKAMI, Junji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KAMEYAMA, Yasuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TOSHIMITSU, Eriko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MIZUHO, Yuji [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MIZUKAMI, Junji; (JP).
KAMEYAMA, Yasuhiro; (JP).
TOSHIMITSU, Eriko; (JP).
MIZUHO, Yuji; (JP)
代理人: SENMYO, Kenji; Torimoto Kogyo Bldg. 38, Kanda-Higashimatsushitacho Chiyoda-ku, Tokyo 1010042 (JP)
優先権情報:
2003-332626 25.09.2003 JP
2003-344636 02.10.2003 JP
発明の名称: (EN) NEGATIVE BLUE-VIOLET LASER PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, IMAGE FORMING MATERIAL, IMAGE FORMER AND METHOD OF IMAGE FORMATION
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE AU LASER BLEU-VIOLET NEGATIF, MATERIAU DE FORMATION D'IMAGE, DISPOSITIF DE FORMATION D'IMAGE ET PROCEDE DE FORMATION D'IMAGE
(JA) ネガ型青紫色レーザー感光性組成物、画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法
要約: front page image
(EN)A negative blue-violet laser photosensitive composition that is highly sensitive to laser beams of blue-violet region, excelling in not only safe light properties under a yellow light but also the resolution and rectangularity of obtained image, which negative blue-violet laser photosensitive composition especially can appropriately be used as a dry film resist material and used in direct lithography by blue-violet laser beams. There are further provided, using the negative blue-violet laser photosensitive composition, an image forming material, image former and method of image formation. In particular, there is provided a negative blue-violet laser photosensitive composition wherein the minimum exposure intensity at which the exposure by blue-violet laser beams causes the residual film ratio to be 90% or higher is 40 mJ/cm2 or less and wherein with respect to a residual film ratio - exposure intensity curve obtained by plotting the residual film ratio at exposed part [t(%)] against the logarithm of exposure intensity by blue-violet laser beams [logE(mJ/cm2)], the ϝ value of straight line binding point at a residual film ratio of 15% with point at a residual film ratio of 80%, t = ϝlogE + &dgr;, is 4.0×102 or more. There are further provided, using the negative blue-violet laser photosensitive composition, an image forming material, image former and method of image formation.
(FR)La présente invention a trait à une composition photosensible au laser bleu-violet négatif présentant une sensibilité élevée aux faisceaux laser de région bleu-violet, ayant non seulement d'excellentes propriétés lumineuses non nuisibles mais également d'excellentes caractéristiques de résolution et de rectangularité de l'image obtenue. Ladite composition photosensible au laser bleu-violet peut en particulier être d'utilisation appropriée sous forme de matériau de résine photosensible sèche et dans la lithographie directe par des faisceaux laser bleu-violet. L'invention a également trait à l'utilisation de la composition photosensible au laser bleu-violet négatif, à un matériau de formation d'image, à un dispositif de formation d'image et à un procédé de formation d'image. En particulier, l'invention a trait à une composition photosensible au laser bleu-violet négatif dans laquelle l'intensité d'exposition minimale à laquelle l'exposition par faisceaux laser bleu-violet conduit à un rapport de film résiduel d'au moins 90 % est égale ou inférieure à 40 mJ/cm2 et dans laquelle en relation avec un rapport de film résiduel /courbe d'intensité obtenue par le tracé du rapport de film résiduel à la partie exposée [t(%)] versus le logarithme d'intensité d'exposition par des faisceaux laser bleu-violet [logE(mJ/cm2)], la valeur $g(Y) de point de liaison de lignes droites à un rapport de film résiduel de 15 % avec un point à un rapport de film résiduel de 80 %, t = $g(Y)logE + $g(d), est égale ou supérieure à 4,0x102. L'invention a trait en outre à l'utilisation de la composition photosensible au laser bleu-violet négatif, à un matériau de formation d'image, à un dispositif de formation d'image et à un procédé de formation d'image.
(JA)not available
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)