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1. WO2005013601 - 保護されたカルボキシル基を有する化合物を含むリソグラフィー用下層膜形成組成物

公開番号 WO/2005/013601
公開日 10.02.2005
国際出願番号 PCT/JP2004/010939
国際出願日 30.07.2004
IPC
H04N 1/38 2006.01
H電気
04電気通信技術
N画像通信,例.テレビジョン
1文書または類似のものの走査,伝送または再生,例.ファクシミリ伝送;それらの細部
38画像の不要部分の消去するための回路または装置
H04N 1/387 2006.01
H電気
04電気通信技術
N画像通信,例.テレビジョン
1文書または類似のものの走査,伝送または再生,例.ファクシミリ伝送;それらの細部
387原画の編集,再配置またはその他の変形
CPC
G03F 7/091
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
09characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
091characterised by antireflection means or light filtering or absorbing means, e.g. anti-halation, contrast enhancement
Y10S 430/106
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
430Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
1055Radiation sensitive composition or product or process of making
106Binder containing
出願人
  • 日産化学工業株式会社 NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 竹井 敏 TAKEI, Satoshi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 岸岡 高広 KISHIOKA, Takahiro [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 境田 康志 SAKAIDA, Yasushi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 新城 徹也 SHINJO, Tetsuya [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 竹井 敏 TAKEI, Satoshi
  • 岸岡 高広 KISHIOKA, Takahiro
  • 境田 康志 SAKAIDA, Yasushi
  • 新城 徹也 SHINJO, Tetsuya
代理人
  • 萼 経夫 HANABUSA, Tsuneo
優先権情報
2003-28273830.07.2003JP
2003-34547603.10.2003JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) COMPOSITION FOR FORMING LOWER LAYER FILM FOR LITHOGRAPHY COMPRISING COMPOUND HAVING PROTECTED CARBOXYL GROUP
(FR) COMPOSITION PERMETTANT DE FORMER UNE COUCHE MINCE INFERIEURE DESTINEE A DES FINS LITHOGRAPHIQUES CONTENANT UN COMPOSE COMPRENANT UN GROUPE CARBOXYLE PROTEGE
(JA) 保護されたカルボキシル基を有する化合物を含むリソグラフィー用下層膜形成組成物
要約
(EN)
[PROBLEMS] To provide a composition for forming a lower layer film for lithography for use in a lithography process for the manufacture of a semiconductor device, and a lower layer film which exhibits an etching rate greater than that of a photoresist and does not cause the intermixing with a photoresist. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] A composition for forming a lower layer film comprising a compound having a protected carboxyl group, a compound having a group capable of reacting with a carboxyl group and a solvent, or comprising a compound having a group capable of reacting with a carboxyl group and a protected carboxyl group and a solvent.
(FR)
L'invention concerne une composition permettant de former une couche mince inférieure destinée à être utilisée dans un procédé lithographique pour la fabrication d'un dispositif à semi-conducteur ainsi qu'une couche mince inférieure qui présente un taux d'attaque supérieur à celui d'une photorésine et qui n'entraîne pas de mélange avec une photorésine. D'une manière plus spécifique, l'invention concerne une composition permettant de former une couche mince inférieure contenant un composé comprenant un groupe carboxyle protégé, un composé comprenant un groupe pouvant réagir avec un groupe carboxyle et un solvant ou contenant un composé comprenant un groupe pouvant réagir avec un groupe carboxyle et un groupe carboxyle protégé et un solvant.
(JA)
【課題】  半導体装置製造のリソグラフィープロセスに使用される、リソグラフィー用下層膜形成組成物、及びフォトレジストに比べて大きなドライエッチング速度を有し、そして、フォトレジストとのインターミキシングを起こさない下層膜を提供すること。 【解決手段】  保護されたカルボキシル基を有する化合物、カルボキシル基と反応可能な基を有する化合物及び溶剤を含む下層膜形成組成物、またはカルボキシル基と反応可能な基と保護されたカルボキシル基とを有する化合物及び溶剤を含む下層膜形成組成物。
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