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1. WO2005012174 - タンタルの炭化物、タンタルの炭化物の製造方法、タンタルの炭化物配線、タンタルの炭化物電極

公開番号 WO/2005/012174
公開日 10.02.2005
国際出願番号 PCT/JP2004/011325
国際出願日 30.07.2004
IPC
C23C 8/02 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
8金属質材料表面への非金属元素のみの固相拡散;表面と反応性ガスとの反応による金属質材料の化学的表面処理,であって表面材料の反応生成物を被覆層中に残すもの,例.化成被覆,金属の不働態化
02被覆される材料の前処理
C23C 8/20 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
8金属質材料表面への非金属元素のみの固相拡散;表面と反応性ガスとの反応による金属質材料の化学的表面処理,であって表面材料の反応生成物を被覆層中に残すもの,例.化成被覆,金属の不働態化
06ガスを用いるもの
081元素のみが用いられるもの
20浸炭
CPC
C23C 8/02
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
8Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces
02Pretreatment of the material to be coated
C23C 8/20
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
8Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces
06using gases
08only one element being applied
20Carburising
Y10T 428/24917
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
428Stock material or miscellaneous articles
24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
24802Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
24917including metal layer
Y10T 428/24926
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
428Stock material or miscellaneous articles
24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
24802Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
24926including ceramic, glass, porcelain or quartz layer
出願人
  • 財団法人新産業創造研究機構 THE NEW INDUSTRY RESEARCH ORGANIZATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 金子 忠昭 KANEKO, Tadaaki [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 浅岡 康 ASAOKA, Yasushi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 佐野 直克 SANO, Naokatsu [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 金子 忠昭 KANEKO, Tadaaki
  • 浅岡 康 ASAOKA, Yasushi
  • 佐野 直克 SANO, Naokatsu
代理人
  • 梶 良之 KAJI, Yoshiyuki
優先権情報
2003-28470801.08.2003JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) TANTALUM CARBIDE, METHOD FOR PRODUCING TANTALUM CARBIDE, TANTALUM CARBIDE WIRING AND TANTALUM CARBIDE ELECTRODE
(FR) CARBURE DE TANTALE, PROCEDE D'OBTENTION DE CARBURE DE TANTALE, CABLAGE ET ELECTRODE EN CARBURE DE TANTALE
(JA) タンタルの炭化物、タンタルの炭化物の製造方法、タンタルの炭化物配線、タンタルの炭化物電極
要約
(EN)
Disclosed is a method for forming a tantalum carbide having a certain shape in a simple manner. This method also enables to form a tantalum carbide having a uniform thickness even when the tantalum carbide is formed on the surface of an article, and such a tantalum carbide will not be separated by the thermal history. Also disclosed are a tantalum carbide, tantalum carbide wiring and tantalum carbide electrode obtained by such a method. The method for forming a tantalum carbide is characterized as follows: tantalum or a tantalum alloy is placed in a vacuum heat treating furnace and heat treatment is conducted under the conditions where a natural oxide film, i.e. Ta2O5, formed on the surface of the tantalum or tantalum alloy is sublimed; and after removing the Ta2O5 film, a carbon source is introduced into the vacuum heat treating furnace so that a tantalum carbide is formed on the surface of the tantalum or tantalum alloy.
(FR)
Cette invention concerne un procédé simple permettant d'obtenir un carbure de tantale selon une certaine forme, et notamment un carbure de tantale d'une certaine épaisseur lorsque ledit carbure est formé sur la surface d'un article, sans risque de séparation ultérieure. L'invention concerne également un carbure de tantale ainsi qu'un câblage et une électrode en carbure de tantale par ce procédé. Ledit procédé se caractérise comme suit: on place du tantale ou un alliage de tantale dans un four de traitement sous vide et l'on procède à un traitement thermique dans des conditions telles qu'un filme d'oxyde naturel, par exemple de Ta2O5 formé sur la surface de tantale ou d'alliage de tantale, se trouve sublimé ; après retrait du film de Ta2O5, on introduit une source de carbone dans le four de traitement sous vide de sorte qu'un carbure de tantale se forme sur la surface du tantale ou de l'alliage de tantale.
(JA)
簡易な方法で、所定の形状のタンタルの炭化物を形成することが可能であり、また、表面にタンタルの炭化物を被覆する場合であっても、均一な厚みのタンタルの炭化物を形成することができるとともに、熱履歴によっても剥離することのないタンタルの炭化物の製造方法及びその製造方法により得られるタンタルの炭化物並びにタンタルの炭化物配線及びタンタルの炭化物電極を提供する。タンタル若しくはタンタル合金を真空熱処理炉内に設置し、前記タンタル若しくはタンタル合金表面に形成されている自然酸化膜であるTa2O5が昇華する条件下で熱処理を行い、前記Ta2O5を除去した後、前記真空熱処理炉内に炭素源を導入して熱処理を行い、前記タンタル若しくはタンタル合金表面にタンタルの炭化物を形成することを特徴とする。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報