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1. (WO2004062907) 基体シート上にSi層を形成したSi積層体
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2004/062907    国際出願番号:    PCT/JP2003/016004
国際公開日: 29.07.2004 国際出願日: 12.12.2003
IPC:
C23C 14/02 (2006.01), C23C 14/16 (2006.01)
出願人: FCM CO., LTD. [JP/JP]; 8-36, Kamiji 3-chome, Higashinari-ku, Osaka-shi, Osaka 537-0003 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MIURA, Shigeki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MIURA, Shigeki; (JP)
代理人: FUKAMI, Hisao; Fukami Patent Office, Mitsui Sumitomo Bank Minamimorimachi Bldg., 1-29, Minamimorimachi 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 530-0054 (JP)
優先権情報:
2003-002471 08.01.2003 JP
発明の名称: (EN) Si LAMINATED BODY HAVING Si LAYER FORMED ON SUBSTRATE SHEET
(FR) CORPS LAMINE EN SILICIUM COMPORTANT UNE COUCHE DE SILICIUM FORMEE SUR UNE FEUILLE DE SUPPORT
(JA) 基体シート上にSi層を形成したSi積層体
要約: front page image
(EN)An Si laminated body (100) is characterized in that formed by the sputtering method on the front and/or back of a substrate sheet (101) whose thickness is 4 - 1000 μm and whose surface roughness Ra value at an optional temperature at least above 180ºC is not more than 2 μm and in which the difference between an Ra value at such optional temperature and an Ra value at 25ºC is within 5%, is an Si layer (102) whose thickness is 0.0005 - 200 μm and which is made of Si having a purity of 99.999% or above.
(FR)La présente invention concerne un corps laminé en silicium (100) qui se caractérise en ce qu'il est formé par pulvérisation sur l'avant et/ou l'arrière d'une feuille de support (101) dont l'épaisseur est comprise entre 4 et 1000 $g(m)m et dont la valeur Ra de rugosité superficielle, à une température facultative au moins supérieure à 180 °C, n'est pas supérieure à 2 $g(m)m, et dans laquelle la différence entre une valeur Ra à cette température facultative et une valeur Ra à 25 °C est inférieure ou égale à 5 %, la couche de silicium (102) possédant une épaisseur comprise entre 0,0005 et 200 $g(m)m et le silicium ayant une pureté supérieure ou égale à 99,999 %.
(JA)本発明のSi積層体(100)は、厚さが4~1000μmであり、少なくとも180℃以上の任意の温度における表面粗さRa値が2μm以下であって、かつその任意の温度におけるRa値と25℃におけるRa値との差が5%以内である基体シート(101)に対して、その基体シート(101)のいずれか一方の表面または表裏両面に、厚さが0.0005~200μmであり、かつ純度が99.999%以上のSiからなるSi層(102)をスパッタリング方法により形成したことを特徴としている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)