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1. (WO2004059392) ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2004/059392    国際出願番号:    PCT/JP2003/016266
国際公開日: 15.07.2004 国際出願日: 18.12.2003
予備審査請求日:    26.04.2004    
IPC:
G03F 7/039 (2006.01)
出願人: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 211-0012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SATO, Kazufumi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HAGIHARA, Mitsuo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KAWANA, Daisuke [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SATO, Kazufumi; (JP).
HAGIHARA, Mitsuo; (JP).
KAWANA, Daisuke; (JP)
代理人: TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku, Tokyo 104-8453 (JP)
優先権情報:
2002-376294 26.12.2002 JP
発明の名称: (EN) POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
(FR) COMPOSITION DE RESERVE POSITIVE ET PROCEDE DE FORMATION D'UN MOTIF DE RESERVE
(JA) ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
要約: front page image
(EN)A positive resist composition containing a resin component (A) which has a group suppressing the solubility thereof into an alkali and undergoing dissociation on the action of an acid and thus exhibits such alkali solubility that is increased by the action of an acid, and an acid generating component (B) which generates an acid on the exposure to a light, wherein the resin component (A) is a copolymer comprising a first constituting unit (a1) derived from hydroxystyrene and a second constituting unit (a2) derived from a (meth)acrylate ester having an alcoholic hydroxyl group, wherein 10 to 25 mole % of the sum of the hydroxyl group in the constituting unit (a1) and the alcoholic hydroxyl group in the constituting unit (a2) is protected by the above-mentioned group, and wherein the copolymer before the protection by the above-mentioned group has a mass average molecular mass of 2000 to 8500; and a method for forming a pattern using the positive resist composition. The positive resist composition allows the achievement of the reduction of the development defect in combination with good performance for resolution.
(FR)L'invention concerne une composition de réserve positive qui contient une composante de résine (A) possédant un groupe supprimant la solubilité de celle-ci dans un alcali et subissant une dissociation sous l'action d'un acide, augmentant ainsi la solubilité alcaline sous l'action d'un acide, et une composante produisant un acide (B) laquelle produit un acide lors de l'exposition à la lumière. La composante de résine (A) est un copolymère comprenant une première unité constitutive (a1) dérivée d'hydroxystyrène et une seconde unité constitutive (a2) dérivée d'un ester de (méth)acrylate possédant un groupe hydroxyle alcoolique. 10 à 12 % molaires de la somme du groupe hydroxyle dans l'unité constitutive (a1) et du groupe hydroxyle alcoolique dans l'unité constitutive (a2) sont protégés par le groupe susmentionné, et le copolymère, avant protection par le groupe susmentionné, possède une masse moléculaire moyenne comprise entre 2000 et 8500. L'invention concerne également un procédé de formation d'un motif au moyen de cette composition de réserve positive. Cette composition de réserve positive permet d'obtenir une réduction de défauts de développement combinée à une bonne performance de résolution.
(JA)良好な解像性能が得られるとともに、現像欠陥を低減させることができるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。このポジ型レジスト組成物は、酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含むポジ型レジスト組成物において、樹脂成分(A)が、ヒドロキシスチレンから誘導される第1の構成単位(a1)、およびアルコール性水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルから誘導される第2の構成単位(a2)を含む共重合体であって、前記構成単位(a1)の水酸基と前記構成単位(a2)のアルコール性水酸基との合計の10モル%以上25モル%以下が前記酸解離性溶解抑制基により保護されており、前記酸解離性溶解抑制基で保護される前の共重合体の質量平均分子量が2000以上8500以下である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)