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1. (WO2004059032) 真空蒸着装置及び蒸着フィルム製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2004/059032    国際出願番号:    PCT/JP2003/016846
国際公開日: 15.07.2004 国際出願日: 26.12.2003
IPC:
C23C 14/56 (2006.01)
出願人: TOPPAN PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 5-1, Taito 1-chome, Taito-ku, Tokyo 110-0016 (JP) (米国を除く全ての指定国).
APPLIED FILMS GMBH & CO. KG [DE/DE]; Siemensstrasse 100, 63775 Alzenau (DE) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NE, NI, NL, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SY, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW only).
SASAKI, Noboru [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SUZUKI, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KOIZUMI, Fumitake [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
IMAI, Nobuhiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ARAI, Kunimasa [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KONAGAI, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SASAKI, Noboru; (JP).
SUZUKI, Hiroshi; (JP).
KOIZUMI, Fumitake; (JP).
IMAI, Nobuhiko; (JP).
ARAI, Kunimasa; (JP).
KONAGAI, Hiroyuki; (JP)
代理人: SUZUYE, Takehiko; c/o SUZUYE & SUZUYE, 7-2, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-0013 (JP)
優先権情報:
2002-376933 26.12.2002 JP
発明の名称: (EN) VACUUM DEPOSITION APPARATUS AND VAPOR-DEPOSITED FILM MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE DEPOT SOUS VIDE ET PROCEDE DE PRODUCTION D'UNE COUCHE DE DEPOT PAR EVAPORATION SOUS VIDE
(JA) 真空蒸着装置及び蒸着フィルム製造方法
要約: front page image
(EN)A vacuum deposition apparatus and a vapor-deposited film manufacturing method for manufacturing vapor-deposited film by forming a vapor-deposited layer on the surface of material film. In the vacuum deposition apparatus, a synchronization means (18) sets the outer peripheral velocity v1 of a coating roll (14) and the outer peripheral velocity v2 of a feed-out side guide roll (15) to v1 = v2 so that the vapor-deposited layer on the surface of the vapor-deposited film is not rubbed against the feed-out side guide roll (15). Thus, the possibility of damage to the vapor-deposited layer can be eliminated to provide a sufficient performance to the vapor-posited layer.
(FR)Dispositif de dépôt sous vide et procédé de production d'un dépôt par évaporation sous vide servant à obtenir une couche de métallisation par dépôt sous vide sur la surface d'une couche de matériau. Dans ce dispositif, des moyens de synchronisation (18) règlent la vitesse périphérique extérieure v1 d'un rouleau de revêtement (14) et la vitesse périphérique extérieure v2 d'un rouleau de guidage côté sortie (15) à v1 = v2, de façon à empêcher le frottement de la couche de métallisation par dépôt sous vide contre le rouleau de guidage (15) côté sortie. Ceci permet d'éviter toute éventualité détérioration de la couche de dépôt par évaporation sous vide et d'obtenir des performances adéquates pour cette couche.
(JA)本発明は、素材フィルム表面に蒸着層を形成して蒸着フィルムを製造するための真空蒸着装置及び蒸着フィルム製造方法に関する。この真空蒸着装置では、同調手段(18)が、コーティングロール(14)の外周速度v1と出側ガイドロール(15)の外周速度v2とをv1=v2とする。このため、蒸着フィルム表面の蒸着層が出側ガイドロール(15)に擦れない。これにより、蒸着層に傷が入る可能性を解消し、蒸着層の性能を十分に実現させる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)