処理中

しばらくお待ちください...

PATENTSCOPE は、メンテナンスのため次の日時に数時間サービスを休止します。サービス休止: 火曜日 25.01.2022 (9:00 午前 CET)
設定

設定

出願の表示

1. WO2004055879 - オゾン処理装置

公開番号 WO/2004/055879
公開日 01.07.2004
国際出願番号 PCT/JP2003/015360
国際出願日 01.12.2003
IPC
B08B 7/00 2006.1
B処理操作;運輸
08清掃
B清掃一般;汚れ防止一般
7このサブクラスの単一のグループあるいは他の単一のサブクラスに分類されない方法による清掃
H01L 21/00 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
CPC
B08B 7/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
08CLEANING
BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
7Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
H01L 21/67017
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67011Apparatus for manufacture or treatment
67017Apparatus for fluid treatment
出願人
  • SUMITOMO PRECISION PRODUCTS CO., LTD. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • KIKUCHI, Tatsuo [JP]/[JP] (UsOnly)
  • YAMANAKA, Takeo [JP]/[JP] (UsOnly)
  • YAMAGUCHI, Yukitaka [JP]/[JP] (UsOnly)
  • KANAYAMA, Tokiko [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • KIKUCHI, Tatsuo
  • YAMANAKA, Takeo
  • YAMAGUCHI, Yukitaka
  • KANAYAMA, Tokiko
代理人
  • MURAKAMI, Satoshi
優先権情報
2002-36229513.12.2002JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) OZONE-PROCESSING APPARATUS
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT A L'OZONE
(JA) オゾン処理装置
要約
(EN) An ozone-processing apparatus for efficiently and uniformly processing the entire surface of a substrate is disclosed. This ozone-processing apparatus (1) comprises a substrate supporting unit for supporting a substrate (K), a heating unit for heating the substrate (K), a first process gas supply head (30) arranged above the substrate (K) for discharging an ozone gas onto the peripheral portion of the substrate, a second process gas supply head (20) arranged above the substrate (K) for discharging an ozone gas onto the other portions of the substrate, and gas supply units (52, 50) which respectively feed ozone gases into the first and second process gas supply heads (30, 20). The gas supply units (52, 50) supply the ozone gases such that the first process gas supply head (30) is fed with an ozone gas having a higher ozone concentration than the ozone gas fed into the second process gas supply head (20).
(FR) L'invention concerne un dispositif de traitement à l'ozone permettant un traitement efficace et uniforme de l'ensemble de la surface d'un substrat. Ce dispositif de traitement à l'ozone (1) comprend une unité de support pour substrat servant de support à un substrat (K), une unité chauffante servant à chauffer le substrat (K), une première tête d'application de gaz (30) disposée au-dessus du substrat (K), servant à appliquer de l'ozone gazeux sur la partie périphérique du substrat, une seconde tête d'application de gaz (20) disposée au-dessus du substrat (K), servant à appliquer de l'ozone gazeux sur les autres parties du substrat, et des unités d'alimentation en gaz (52, 50) servant à alimenter en ozone gazeux la première et la seconde tête d'application de gaz (30, 20), respectivement. L'ozone gazeux fourni à la première tête d'application de gaz (30) est plus concentré que l'ozone gazeux fourni à la seconde tête d'application de gaz (20).
(JA) 本発明は、基板表面全体を効率的且つ均一に処理することができるオゾン処理装置に関し、このオゾン処理装置1は、基板Kを支持する支持装置と、基板Kを加熱する加熱装置と、基板Kの上方に配設され、その周縁部に向けてオゾンガスを吐出する第1処理ガス供給ヘッド30、及び周縁部以外の領域に向けてオゾンガスを吐出する第2処理ガス供給ヘッド20と、第1及び第2処理ガス供給ヘッド30,20にオゾンガスをそれぞれ供給するガス供給装置52,50とを備える。ガス供給装置52,50は、第2処理ガス供給ヘッド20に供給するオゾンガスに比べて高オゾン濃度のオゾンガスを第1処理ガス供給ヘッド30に供給する。
Related patent documents
国際事務局に記録されている最新の書誌情報