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1. (WO2004054926) 内包フラーレンの製造・回収システムツール
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2004/054926    国際出願番号:    PCT/JP2003/016111
国際公開日: 01.07.2004 国際出願日: 16.12.2003
予備審査請求日:    12.07.2004    
IPC:
B01J 19/18 (2006.01), C01B 31/02 (2006.01)
出願人: IDEAL STAR INC. [JP/JP]; 6-3, Minami-Yoshinari 6-chome, Aoba-ku, Sendai-shi, Miyagi 989-3204 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HATAKEYAMA, Rikizo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HIRATA, Takamichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KASAMA, Yasuhiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OMOTE, Kenji [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HATAKEYAMA, Rikizo; (JP).
HIRATA, Takamichi; (JP).
KASAMA, Yasuhiko; (JP).
OMOTE, Kenji; (JP)
代理人: FUKUMORI, Hisao; 2F, Fuji Building, 5-11, Kudanminami 4-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 102-0074 (JP)
優先権情報:
2002-364410 16.12.2002 JP
発明の名称: (EN) INVOLVED FULLERENE MANUFACTURING AND COLLECTING SYSTEM TOOL
(FR) OUTIL SYSTEME PERMETTANT DE FABRIQUER ET DE COLLECTER DES FULLERENES COMPLEXES
(JA) 内包フラーレンの製造・回収システムツール
要約: front page image
(EN)A fullerene manufacturing and collecting system tool capable of manufacturing a high quality involved fullerene with a high production efficiency, comprising a vacuum chamber (1), a film formation chamber (5) having a substrate inlet port (2a) for leading a substrate (3a) therein formed on the vacuum chamber (1) side and stacking the involved fullerene on the substrate (2a), a dissolving chamber (6) having a substrate inlet port (2b) for leading, therein, a substrate (3b) on which the involved fullerene was stacked in the film formation chamber (5) formed on the vacuum chamber (1) side and also having a dissolving liquid inlet port (9) for leading dissolving liquid for melting the involved fullerene stacked on the substrate (2b) and a dissolving liquid outlet port (10) for discharging the dissolving liquid (this dissolving liquid is referred to as “resolvent”) after the involved fullerene is dissolved, and susceptors (4a, 4b) allowed to be rotated and reciprocatingly moved, allowing a plurality of substrates to be placed thereon, and capable of leading the substrates into the film formation chamber (5) and the dissolving chamber (6).
(FR)L'invention concerne un outil système conçu pour fabriquer et collecter des fullerènes, permettant de fabriquer un fullerène complexe de grande qualité avec un rendement de production élevé. L'outil système décrit dans cette invention comprend une chambre à vide (1), une chambre de formation de pellicule (5) présentant un orifice d'amenée de substrat (2a) conçu pour l'acheminement d'un substrat (3a) sur le côté de la chambre à vide (1) et pour l'empilement du fullerène complexe sur le substrat (2a); une chambre de dissolution (6) dotée d'un orifice d'amenée de substrat (2b) conçu pour l'acheminement d'un substrat (3b) sur lequel le fullerène complexe a été empilé à l'intérieur de la chambre de formation de pellicule (5), lequel orifice est formé sur le côté de la chambre à vide (1), et d'un orifice d'amenée de liquide dissolvant (9) conçu pour permettre l'acheminement du liquide dissolvant afin de faire fondre le fullerène complexe empilé sur le substrat (2b), et d'un orifice d'évacuation de liquide dissolvant (10) conçu pour permettre l'évacuation du liquide dissolvant (ce liquide dissolvant étant appelé 'résolvant') après dissolution du fullerène complexe, et rotation et déplacement réciproque des suscepteurs (4a, 4b), permettant l'installation de plusieurs substrats et permettant d'acheminer les substrats dans la chambre de formation de pellicule (5) et dans la chambre de dissolution (6).
(JA) 高品質の内包フラーレンを高い生産効率を以って製造することができるフラーレンの製造・回収システムツールを提供すること。 真空室1と、基板3aを導入するための基板導入口2aを真空室1側に有し、基板2a上への内包フラーレンの堆積を行うための成膜室5と、成膜室5において内包フラーレンの堆積が行われた基板3bを導入するための基板導入口2bを真空室1側に有し、基板2b上に堆積した内包フラーレンの溶解を行うための溶解用液を導入するための溶解用液導入口9と、内包フラーレンを溶解した後の溶解用液(この溶解用液を「溶解液」という)を排出するための溶解液排出口10とを有する溶解室6と、回転及び往復動可能であり、複数の基板を載置可能であり、基板を成膜室5乃至該溶解室6へ導入できるようにしたサセプタ4a,4bと、を有する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)