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1. WO2004044024 - 感光性樹脂組成物および含水ゲルの形成方法

公開番号 WO/2004/044024
公開日 27.05.2004
国際出願番号 PCT/JP2003/014466
国際出願日 13.11.2003
IPC
C08F 265/02 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
265グループC08F20/00で定義された不飽和モノカルボン酸またはその誘導体の重合体への重合によって得られる高分子化合物
02酸,塩または無水物の重合体への重合によるもの
C08F 290/12 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
290脂肪族不飽和の末端基または側基の導入により変性された重合体に,単量体を重合させて得られる高分子化合物
08不飽和側基の導入により変性された重合体への
12サブクラスC08CまたはC08Fに分類される重合体
C08F 299/00 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
299非高分子量単量体の不存在下に,炭素-炭素不飽和結合のみが関与する重合体相互の反応によって得られる高分子化合物
C08L 51/00 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L高分子化合物の組成物
51グラフト成分が炭素―炭素不飽和結合のみが関与する反応によって得られるグラフト重合体の組成物;そのような重合体の誘導体の組成物
CPC
C08F 265/02
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
265Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
02on to polymers of acids, salts or anhydrides
C08F 2810/30
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
2810Chemical modification of a polymer
30leading to the formation or introduction of aliphatic or alicyclic unsaturated groups
C08F 290/126
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
290Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
08on to polymers modified by introduction of unsaturated side groups
12Polymers provided for in subclasses C08C or C08F
126Polymers of unsaturated carboxylic acids or derivatives thereof
C08F 299/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
299Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
C08F 8/14
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
8Chemical modification by after-treatment
14Esterification
C08L 51/003
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
51Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
003grafted on to macromolecular compounds obtained by reactions only involving unsaturated carbon-to-carbon bonds
出願人
  • TOYO GOSEI CO., LTD. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • UTSUNOMIYA, Shin [JP]/[JP] (UsOnly)
  • YAMADA, Seigo [JP]/[JP] (UsOnly)
  • TAKANO, Masahiro [JP]/[JP] (UsOnly)
  • MIYAZAKI, Mitsuharu [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • UTSUNOMIYA, Shin
  • YAMADA, Seigo
  • TAKANO, Masahiro
  • MIYAZAKI, Mitsuharu
代理人
  • KURIHARA, Hiroyuki
優先権情報
2002-33126914.11.2002JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PROCESS FOR THE FORMATION OF HYDROGEL
(FR) COMPOSITION DE RESINE PHOTOSENSIBLE ET PROCEDE DE FORMATION D'HYDROGEL
(JA) 感光性樹脂組成物および含水ゲルの形成方法
要約
(EN)
A photosensitive resin composition comprising (A) a water-soluble photosensitive poly(meth)acrylic acid resin which is produced by addition reaction of part of the carboxyl groups of a (meth)acrylic acid polymer with a compound represented by the general formula (1) and has an acid number of solids of 150mgKOH/g or above, (B) a photopolymerization initiator, and (C) water: (1) wherein R1 is H or Me; and R2 is linear or branched alkylene having 2 to 10 carbon atoms.
(FR)
L'invention concerne une composition de résine photosensible qui comprend : (A) une résine d'acide poly(méth)acrylique photosensible soluble dans l'eau qui est obtenue par réaction d'addition d'une partie des groupes carboxyle d'un polymère d'acide (méth)acrylique avec un composé représenté par la formule générale (1) et qui présente un indice d'acidité de solides de 150mgKOH/g ou plus ; (B) un initiateur de photopolymérisation ; et (C) de l'eau. Dans la formule générale (1), R1 représente H ou Me ; et R2 représente un alkylène linéaire ou ramifié comprenant de 2 à 10 atomes de carbone.
(JA)
not available
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