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1. (WO2004019128) PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND METHOD FOR PHOTOLITHOGRAPHY AND EXPOSURE APPARATUS AND METHOD USING SAME
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2004/019128 国際出願番号: PCT/JP2003/010665
国際公開日: 04.03.2004 国際出願日: 22.08.2003
IPC:
G02B 17/08 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
17
反射面を有し,かつ屈折素子をもちまたはもたない系
08
反射屈折系
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331, JP (AllExceptUS)
OMURA, Yasuhiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
IKEZAWA, Hironori [JP/JP]; JP (UsOnly)
WILLIAMSON, David, M. [GB/GB]; GB (UsOnly)
発明者:
OMURA, Yasuhiro; JP
IKEZAWA, Hironori; JP
WILLIAMSON, David, M.; GB
代理人:
HASEGAWA, Yoshiki ; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Ginza First Bldg. 10-6, Ginza 1-chome Chuo-ku, Tokyo 104-0061, JP
優先権情報:
0311470.919.05.2003GB
2002-24292523.08.2002JP
発明の名称: (EN) PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND METHOD FOR PHOTOLITHOGRAPHY AND EXPOSURE APPARATUS AND METHOD USING SAME
(FR) SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION ET PROCEDE ASSOCIE POUR LA PHOTOLITHOGRAPHIE, ET APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCEDE ASSOCIE
要約:
(EN) Optical Projection System and Method for Photolithography. A lithographic immersion projection system and method for projecting an image at high resolution over a wide field of view. The projection system and method include a final lens which decreases the marginal ray angle of the optical path before light passes into the immersion liquid to impinge on the image plane.
(FR) L'invention concerne un système optique de projection et un procédé associé pour la photolithographie. Elle concerne également un système de projection par immersion lithographique et un procédé de projection d'une image à haute résolution sur un grand champ de vision. Le système de projection comprend une lentille terminale qui réduit l'angle de rayon marginal du chemin optique avant que la lumière entre dans le liquide d'immersion pour venir frapper le plan d'image.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 英語 (EN)
国際出願言語: 英語 (EN)
また、:
KR1020050035890EP1532489JP2005536775US20050248856US20080068573US20080068576
US20080068724US20080094696US20080049306US20080049336CN1668984AU2003256081