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1. (WO2004017455) 非放射性誘電体線路の製造方法及び非放射性誘電体線路
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2004/017455    国際出願番号:    PCT/JP2003/010316
国際公開日: 26.02.2004 国際出願日: 13.08.2003
予備審査請求日:    17.02.2004    
IPC:
H01P 3/16 (2006.01), H01P 11/00 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 107-8481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YUASA, Mitsuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YUASA, Mitsuhiro; (JP)
代理人: AOKI, Atsushi; A. AOKI, ISHIDA & ASSOCIATES, Toranomon 37 Mori Bldg., 5-1, Toranomon 3-chome, Minato-ku, Tokyo 105-8423 (JP)
優先権情報:
2002-236351 14.08.2002 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING NONRADIATIVE DIELECTRIC WAVEGUIDE AND NONRADIATIVE DIELECTRIC WAVEGUIDE
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D'UN GUIDE D'ONDES DIELECTRIQUE NON RAYONNANT ET GUIDE D'ONDES DIELECTRIQUE NON RAYONNANT
(JA) 非放射性誘電体線路の製造方法及び非放射性誘電体線路
要約: front page image
(EN)A conductive film is formed on a substrate wherein an MEMS circuit has been manufactured; a dielectric A film having a low dielectric constant and a dielectric B film having a high dielectric constant are formed on the conductive film; and a conductive film is formed on the dielectric films. A millimeter wave is guided by the dielectric B film functioning as a dielectric waveguide and propagated as being reflected by the conductor.
(FR)Selon l'invention, une pellicule conductrice est formée sur un substrat portant un circuit MEMS (système mécanique microélectrique), une pellicule diélectrique (A) présentant une constante diélectrique faible et une pellicule diélectrique (B) présentant une constante diélectrique élevée sont formées sur la pellicule conductrice, et une pellicule conductrice est formée sur les pellicules diélectriques. Une onde millimétrique est guidée par la pellicule diélectrique (B) fonctionnant en tant que guide d'ondes diélectrique, et propagée lorsqu'elle est réfléchie par le conducteur.
(JA)MEMS回路を組み込んだ基板上に導体膜を形成し、その上に誘電率の低い誘電体A膜と誘電率の高い誘電体B膜を形成し、その上に導体膜を形成する。ミリ波は、誘電体線路である誘電体B膜によってガイドされ、導体に反射しながら伝搬する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)