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World Intellectual Property Organization
1. (WO2004013906) オゾン処理装置

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2004/013906    国際出願番号:    PCT/JP2003/009702
国際公開日: 12.02.2004 国際出願日: 30.07.2003
H01L 21/687 (2006.01)
出願人: SUMITOMO PRECISION PRODUCTS CO., LTD. [JP/JP]; 1-10, Fuso-cho, Amagasaki-shi, Hyogo 660-0891 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KIKUCHI, Tatsuo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMANAKA, Takeo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMAGUCHI, Yukitaka [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KANAYAMA, Tokiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KIKUCHI, Tatsuo; (JP).
YAMANAKA, Takeo; (JP).
YAMAGUCHI, Yukitaka; (JP).
KANAYAMA, Tokiko; (JP)
代理人: MURAKAMI, Satoshi; Room 804, Rise 88 Bldg., 1-10, Honjo-Higashi 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 531-0074 (JP)
2002-227588 05.08.2002 JP
2002-250322 29.08.2002 JP
2002-250411 29.08.2002 JP
(JA) オゾン処理装置
要約: front page image
(EN)An ozone processing apparatus (1) comprises a placement stand (20) on which a substrate (k) is placed, a heater for heating the substrate (k), an opposing plate (51) provided so as to be opposed to the substrate (k), and a support device (25). The support device (25) is provided with a gas supply device for supplying processing gas including ozone toward the substrate (k) and circulating the processing gas between the substrate (k) and the opposing plate (51), a first support mechanism (26) supporting and fixing the bottom face center portion of the placement stand (20), second support mechanisms (30) supporting the bottom face of the placement stand (20) and structured such that the vertical supporting of the bottom face is adjustable, and a foundation (28) on which the first support mechanism (26) and the second support mechanisms (30) are placed and fixed. The flatness of the placement stand (20) can be properly set by appropriately adjusting the support position of the second support mechanisms (30), and the distance between the substrate and the opposing plate can be uniformly maintained for the entire region where they are opposed to each other.
(FR)L'invention concerne un appareil de traitement d'ozone (1), qui comprend un socle de placement (20) sur lequel un substrat (k) est disposé; un élément chauffant pour chauffer le substrat (k); une plaque antagoniste (51) installée pour faire opposition au substrat (k); et un dispositif de support (25). Le dispositif de support (25) est équipé d'un dispositif d'alimentation en gaz qui alimente le substrat (k) en gaz de traitement contenant de l'ozone, et fait circuler le gaz de traitement entre le substrat (k) et la plaque antagoniste (51). L'appareil comprend également un premier mécanisme de support (26) qui reçoit et fixe la partie centrale de la face inférieure du socle de placement (20); une seconde série de mécanismes de support (30) qui reçoivent la face inférieure du socle de placement (20) et sont structurés de sorte que le soutien vertical de la face inférieure soit réglable; et un socle (28) sur lequel le premier mécanisme de support (26) et la seconde série de mécanismes de support (30) sont placés et fixés. La planéité du socle de placement (20) peut être déterminée correctement par un réglage approprié de la position de support de la seconde série de mécanismes de support (30), et la distance entre le substrat et la plaque antagoniste peut être maintenue uniforme pour toute la zone où le substrat et la plaque sont antagonistes.
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)